为降低TDDI产品Lead Open型线不良发生率, 本文对Lead Open的发生机理进行了研究及改善验证。对TDDI产品生产数据进行了对比, 对Mo-Al-Mo结构的SD膜层进行研究, 根据以上结果确定改善方案并投入验证。首先, 明确了Lead Open发生率与Delay Time的关系。接着, 对SD膜层的微观结构进行了表征。然后, 根据膜层结构和不同金属的电化学特征, 建立了SD膜层电偶腐蚀模型。分析表明: Mo、Al两种金属间存在1.47 V的电极电位差, 具有很强的电偶腐蚀倾向性, 且表层 Mo中存在10 nm级别的贯穿性孔洞, 直径为0.4 nm的水分子可轻易渗入, 进而引发电偶腐蚀。表层 Mo厚度增加25%后, 其腐蚀速度较量产条件降低30%, Lead Open发生率降低1.4个百分点, 维持在0.1%的较低水平, 满足TDDI产品量产对该类不良发生率的要求。

报道了一种基于液晶/聚合物光栅选频的高效率有机半导体激光器的制备方法。首先在一片玻璃基板上旋涂有机半导体荧光薄膜MEH-PPV作为增益介质, 然后在其上通过光场中的定域光聚合制备液晶/聚合物光栅, 形成分布式反馈（DFB）有机半导体激光器。激光出射阈值0.32 μJ/pulse, 斜率转化效率高达7.8%, 呈现良好的s偏振特性。采集了激光束的光斑, 轮廓清晰, 呈现扇形结构。通过改变光栅周期, 实现了53.4 nm激光出射范围。本工作为新型有机激光器的制备提供了有益的指导和借鉴意义。

为了获得低熔点、折射率各向异性（Δn）大的快速响应向列相液晶材料,高Δn值的液晶混合体系中需要加入熔点在50 ℃以下、Δn大于0.35的双环类液晶组分, 以使快速响应向列相液晶材料满足室温工作的要求。本文合成了异硫氰基含氟二苯乙炔类液晶化合物; 一方面由于在分子苯环侧位引入F原子, 减小分子间作用力, 使化合物的熔点下降; 另一方面在两个苯环间引入三键、分子末端接入异硫氰基极性基团, 增加了分子的共轭性, 提高了目标化合物的Δn值。获得了熔点分别为31 ℃和50 ℃、Δn为0.39和0.40, 这两种低熔点化合物与目前已具有的毫秒级快速响应向列相液晶化合物混合, 可使其熔点低至10℃以下。

闪耀点（Sparkle）是影响防眩屏幕显示效果的重要因素之一, 为满足人们对显示屏分辨率日益提高的要求, 闪耀点越来越受到关注。但目前对闪耀点的确切定义, 产生原因, 表征手段及评价指标等尚无统一的认识和标准。本文从闪耀点现象入手, 介绍了目前闪耀点主要的研究表征方法, 例如Gollier和Becker各自提出了表征闪耀点的评价测试体系并给出了一系列相关参数; Evans等人在Gollier和Becker工作的基础上进行了一系列心理物理学实验来评价闪耀点现象的实际效果等等。本文就闪耀点的研究现状进行了详尽的综述, 为后续屏幕闪耀点研究, 建立统一的评价方法与标准提供了宝贵的参考资料。

Mo/Al/Mo结构金属作为TFT的电极, 刻蚀后的坡度角和关键尺寸差是重要的参数。明确影响坡度角和关键尺寸差的工艺参数, 进而控制坡度角和关键尺寸差, 这对工艺制程至关重要。本文探究了膜层结构、曝光工艺、刻蚀工艺对坡度角和关键尺寸差的影响, 并对刻蚀工艺进行正交试验设计。实验结果表明: Al膜厚每减小60 nm, 坡度角下降约9°, 关键尺寸差增加0.1 μm。曝光工艺中, 显影后烘烤会增加光阻粘附力, 导致关键尺寸差减小0.1 μm , 同时坡度角增加约9°。刻蚀工艺中, 过刻量每增加10%, 坡度角下降3.3°, 关键尺寸差增加0.14 μm; 正交试验结果表明, 对关键尺寸差、刻蚀均一性、坡度角影响因素的重要性顺序是: 液刀流量＞Air Plasma电压＞水刀流量。经上述探究表明, 坡度角和关键尺寸差呈负相关关系, 刻蚀程度增加, 关键尺寸差增加, 而坡度角则减小。可以通过调节工艺参数对坡度角和关键尺寸差进行控制。

以往研究发现平面内扭转（In-Plane Switching, IPS）模式蓝相液晶显示器件的图像显示对比度明显低于理论预期。本文对导致这一问题的物理原理进行理论分析和实验验证, 据此提出改进的菱形电极结构设计以解决这一问题。实验证明, 调整走向后的IPS电极结构能使蓝相液晶显示器件的暗态漏光减小2/3, 使其显示对比度提升至10 000∶1以上。基于这一实验发现, 本文提出了全新的菱形电极结构设计, 以求获得高对比度显示效果。除此以外, 采用Techwiz仿真分析改进后的菱形IPS电极蓝相液晶显示器件的电光特性, 发现其伽玛偏移和灰度反转可分别减小3/4和2/3, 并且其驱动电压和透过率与传统IPS模式蓝相液晶显示器件相仿。可见, 基于改进的菱形IPS电极结构的蓝相液晶显示器件相较传统蓝相液晶显示器件具备更好的显示性能和市场竞争力。

由于飞机铆钉缺陷检测系统的光照效果对缺陷检测质量发挥着关键作用, 因此本文对其照明系统进行优化。以被测零件背景图像灰度的均匀度为优化目标, 在拟合LED点光源照度分布函数的基础上, 利用菌群算法对光源系统参数进行寻优运算, 根据寻优结果对光源系统进行结构优化同时对各LED点光源进行功率控制, 并通过光学元件进一步提高优化效果。实验结果表明: 优化后光照均匀度在95%以上, 满足铆钉检测的光照要求。该方法实现了照明系统对铆钉顶圆面均匀照射的效果, 成像质量显著提高。

为了提高湍流图像的空间分辨率, 提出了一种基于小波域Curvelet变换(wavelet domain Curvelet transform, WDCT)的湍流图像去噪算法。该算法根据湍流退化图像噪声的统计特性, 结合贝叶斯萎缩方法优化阈值选择。首先, 对含噪湍流图像进行单层二维离散小波变换, 接着提取高频系数并对它作快速离散Curvelet变换, 最后根据贝叶斯准则估计阈值T, 改进阈值的自适应选取方法, 获得最优阈值, 最后给出湍流图像去噪实现过程。为验证本文算法, 根据客观评价标准峰值信噪比(peak signal to noise ratio, PSNR)和均方根误差(mean square error, MSE), 对模拟图像和实测湍流图像进行去噪实验。与DWT-NABayesShrink算法、UWT算法相比, 视觉效果更好, PSNR值分别提高7.27%和4.92%, MSE值分别降低26.3%和23.1%。本文算法得到较清晰的目标图像, 对湍流退化图像去噪有一定的应用价值。

为了克服PC印鉴识别系统体积大、成本高并且识别精度低、适应性差的缺点, 设计了基于SIFT-SVM的嵌入式印鉴识别系统。系统计算印鉴图像的SIFT特征并进一步构造基于SIFT匹配的印鉴特征向量, 将构造的印鉴特征向量输入支持向量机进行训练, 并采用遗传算法优化SVM的惩罚因子和核参数, 使识别性能最优。系统以ARM11处理器作为印鉴特征提取和识别的核心单元, 采用ZC301摄像头进行图像采集, 并以蜂鸣器、LED、LCD作为报警显示设备。实验表明, 该系统对印鉴在模糊、旋转等多种情形下取得了93.5%的良好识别率, 且当笔划加粗仅5%时仍具有很好的适用性。系统具有识别精度好、适用性强, 体积小、设计灵活的优点。

计算机操作系统中的颜色管理设置对显示器的正确显色起着十分重要的作用。针对此问题, 本文借助Windows7平台下的图形图像处理软件“Adobe PhotoShop”, 按照操作系统级和应用程序级颜色配置文件的不同, 分3种情况设计了不同的颜色显示方案, 并通过色差计算和色域比较的方法分析了操作系统级颜色配置文件在显示器颜色再现中所起的作用, 所得重要结论如下: 如果将操作系统级颜色配置文件设置为显示器自身的ICC特性文件, 那么显示器的显色效果变化被看作是应用程序级ICC对颜色色度值进行重新定义的结果; 如果将操作系统级颜色配置文件设置为其它ICC, 则会发生从操作系统级ICC到应用程序级ICC的颜色空间转换, 且两者的色域差别越大, 转换后的显色效果变化就越剧烈。本研究结论对于正确应用显示器色彩管理具有一定的指导意义。

为了定量评价两种技术在视觉研究实验中的适用性, 本文根据文献分析和视觉研究需求设计了显示器性能测试系统与测试流程, 对一台阴极射线管(CRT)显示器和两台通用液晶显示器作为视觉刺激显示设备的关键性能进行测试。结合心理物理学理论, 特别是韦伯定律, 详细地分析和比较了各项测试结果。实验结果显示所有的显示器有不同的Gamma特性, 需要进行相应的Gamma校正之后才能线性呈现图像的灰度级; CRT显示器在响应时间上具有绝对优势, 但屏幕空间均匀性和独立性较差; 相比于CRT显示器, LCD显示器具有较高的亮度和较好的空间均匀性和独立性, 但是响应时间偏慢, 而且相邻两帧图像之间独立性较差。这些测试结果表明, CRT显示器仍然是高动态特性视觉刺激显示的首选, 而LCD显示器可以用于呈现对空间亮度一致性和空间的独立性要求高, 但对响应速度要求不高的视觉刺激。