作为碲锌镉衬底表面加工的重要工序, 化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)的加工效果决定了碲锌镉衬底的表面质量和生产效率。抛光液是CMP的关键影响因素之一, 直接影响衬底抛光后的表面质量。对碲锌镉衬底CMP工艺使用的抛光液进行了研究, 探究了以二氧化硅溶胶和过氧化氢为主体的抛光液体系在不同pH值、不同磨料浓度下对衬底抛光表面质量和去除速率的影响。结果表明, 使用改进后的抛光液体系对碲锌镉衬底进行CMP, 能够在获得超光滑表面的同时实现高效率加工, 为批量化制备高表面质量的碲锌镉衬底奠定了良好基础。
碲锌镉 化学机械抛光 磨料浓度 pH值 CdZnTe chemical mechanical polishing abrasive concentration pH value
利用扫描电镜、能谱分析、光学轮廓仪以及金相显微镜等测试手段对液相外延碲镉汞薄膜表面缺陷的形貌、成分和断面进行了分析，并研究了不同种类表面缺陷的特征及来源。结果表明，液相外延碲镉汞薄膜表面上存在的结晶类缺陷往往尺寸较大或成片分布，对后续器件产生明显影响。通过分析其成因可以发现，母液均匀性的提升是减少该类缺陷和提高碲镉汞薄膜质量的关键。
碲镉汞 结晶类缺陷 相分离 HgCdTe crystalline defect phase separation
