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设计与研究
Ni80Cr20薄膜的光谱中性度优化
下载:511次
金秀
张勇喜
刘佩闻
张鹤
[ ... ]
班超
作者单位
摘要
沈阳仪表科学研究院有限公司,辽宁 沈阳 110043
金属材料薄膜的光学常数会随膜层厚度发生变化,从而导致薄膜的光谱特性也发生变化。在制备工艺中,不论是热蒸发工艺还是溅射工艺,Ni80Cr20(简称镍铬)薄膜在较“薄”和较“厚”的时候光谱中性度都较差,并且其光谱特性趋势相反。理论计算结果表明,增加镍铬合金中Cr(铬)的比份可以提高“薄”膜的中性度,而“厚”膜则需要提高Ni(镍)的比份。针对光谱特性相反的“薄”膜和“厚”膜,分别提出了“有意分馏”和增加镍的比例的方法来改善光谱的中性度。试验结果表明:为改善膜层的中性度,低密度时可采用“有意分馏”的热蒸发工艺来提高膜层中铬的含量;而高密度时则可以镀制纯镍。“有意分馏”的热蒸发工艺可将光谱中性度提升至1.8%;纯镍工艺可将
OD
4的光谱中性度提升至4.6%。所提出的改进的镀膜工艺是有效的,并为光谱检测、光纤通讯、摄影摄像等应用领域的衰减片制备工艺的改进提供了参考。
中性密度滤光片
中性度
镍铬合金
热蒸发
分馏
溅射
neutral density filters
neutrality
nickel-chromium alloy
thermal evaporation
fractionation
sputtering
PDF全文
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光学仪器
2022, 44(3): 56
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