金属材料薄膜的光学常数会随膜层厚度发生变化，从而导致薄膜的光谱特性也发生变化。在制备工艺中，不论是热蒸发工艺还是溅射工艺，Ni80Cr20（简称镍铬）薄膜在较“薄”和较“厚”的时候光谱中性度都较差，并且其光谱特性趋势相反。理论计算结果表明，增加镍铬合金中Cr（铬）的比份可以提高“薄”膜的中性度，而“厚”膜则需要提高Ni（镍）的比份。针对光谱特性相反的“薄”膜和“厚”膜，分别提出了“有意分馏”和增加镍的比例的方法来改善光谱的中性度。试验结果表明：为改善膜层的中性度，低密度时可采用“有意分馏”的热蒸发工艺来提高膜层中铬的含量；而高密度时则可以镀制纯镍。“有意分馏”的热蒸发工艺可将光谱中性度提升至1.8%；纯镍工艺可将OD4的光谱中性度提升至4.6%。所提出的改进的镀膜工艺是有效的，并为光谱检测、光纤通讯、摄影摄像等应用领域的衰减片制备工艺的改进提供了参考。

Ni80Cr20合金薄膜在可见光波段展现出很好的光学中性度。真空镀膜系统中石英晶振膜厚传感器的测量误差是导致薄膜的实际光密度值偏离设定值的主要原因。为此，提出了一种提高中性密度滤光片光密度值精度的制备方法，即采用真空镀膜结合离子束蚀刻技术，通过对镀膜和蚀刻参数的精确控制，实现对薄膜厚度的精密调控，将光密度值的相对误差控制在±2%以内，绝对误差不超过±0.01，使得薄膜的厚度调控量处于原子层尺度，满足了滤光片在高精度要求下光谱系统中的使用要求。同时验证了中性密度滤光片在离子束蚀刻微量减薄后，依旧拥有良好的光学性能和表面平整度，使得离子束轰击蚀刻薄膜技术成为一种新的且可靠的薄膜厚度微量调控方法。