在激光抛光金属材料时，材料表面的粗糙度是评判抛光效果的主要指标。采用正交试验及响应面法进行了激光抛光表面粗糙度试验设计。为了研究离焦量、激光功率、重复频率、扫描速度这四个因素对表面粗糙度的影响，设计了四因素三水平正交试验，对结果进行了极差分析和对比选优。之后利用响应面法设计了四因素三水平的Box-Behnken Design（BBD）试验，建立了表面粗糙度的数值模型，同时得到了优化的抛光工艺参数。正交试验极差优化得到的最低粗糙度为0.1178 μm，略高于响应曲面优化得到的0.1112 μm。当离焦量为3 mm，激光功率为29.825 W，重复频率为91.451 kHz，扫描速度为1749.794 mm/s时，TC4合金经过激光微抛光后，表面粗糙度由0.3247 μm降低至0.1112 μm。合适的工艺参数有助于获得良好的激光抛光效果及较低的表面粗糙度。

分析了激励脉冲电压作用下铁电阴极电容的变化，即等离子体沿着铁电阴极前电极表面扩散而引起电容变化；建立了激励脉冲电压作用下铁电阴极等效电容模型并推导铁电阴极前电极表面等离子横向扩散速度表达式。采用传统固相烧结工艺制备的掺镧锆锡钛酸铅反铁电陶瓷作为阴极材料，通过测量激励脉冲电压作用下铁电阴极两端的电压及充放电电流，计算得到掺镧锆锡钛酸铅陶瓷表面等离子体横向扩散速度为1.89×106 cm/s。