1 四川师范大学物理与电子工程学院，成都 610101
2 电子科技大学光电信息学院，成都 610054
Bowtie孔径结构已被广泛用于纳米直写光刻领域来获得超衍射聚焦光斑。然而，利用该结构获得的超衍射聚焦光斑呈椭圆形，影响了Bowtie结构的进一步应用。为了获得超衍射且圆形对称的聚焦光斑，本文提出了双Bowtie新型纳米光刻结构并利用Comsol软件仿真模拟了该结构的焦斑对称特性和电场增强特性。结果表明利用双Bowtie结构获得了圆形对称焦斑，并且出射面的电场强度得到了增强，是入射面电场强度的22倍。本文进一步将双Bowtie结构与金属/介质/金属结构相结合，使得局域增强后的透射光的传输距离(工作距)得到了显著延长。
Bowtie孔径结构 纳米直写光刻 电场增强特性 金属/介质/金属结构 Bowtie aperture structure nanometer direct-writing lithography electricity enhanced characteristic metal-insulator-metal structure
