作者单位
摘要
1 中国电子科技集团公司第二十六研究所, 重庆 400060
2 麦格磁电科技有限公司,广东 珠海 519040
为了解决传统提拉单晶体生长界面不稳定的难题, 该文在传统全自动提拉单晶炉等径控制理论的基础上, 通过原料补充装置, 不断添加与晶体生长量相等的晶体原料至坩埚内, 以稳定晶体生长液面的高度不变; 再通过光学放大和电荷耦合器件(CCD)成像装置测量晶体实时直径的变化, 以此变化率调整晶体旋转速度, 最终使晶体生长界面始终维持在一个相对稳定的理想状态, 从而保证晶体外形符合设定要求和内部品质的优良。
提拉(CZ)法 生长界面 单晶炉 晶体生长 自动控制 Czochralski(CZ) method growth interface single crystal furnace crystal growth automatic control 
压电与声光
2020, 42(5): 718

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