光纤陀螺工作温度的提升主要受制于光路系统，通过控制方案的优化可以提高光纤陀螺的工作温度。通过对光纤陀螺光路系统进行理论分析，提出了基于动态温控的光纤陀螺控制方案，通过试验验证了该方案的改进效果。光纤陀螺采用动态温度控制方案，一方面能够降低高温工作时的功耗，提高高温工作温度；另一方面可以降低光纤陀螺标度因数由于温度波动而引起的变化。

在复杂电磁环境中，磁场干扰是光纤陀螺仪产生误差的主要原因之一。为了减小光纤陀螺仪台体中加热片产生的磁场对陀螺仪精度的影响，设计了双层加热片结构，并采用有限元方法对单、双层加热片上方光纤环位置处的磁场进行对比分析，根据分析结果计算磁场对光纤陀螺仪精度的影响，结果表明：两种加热片在光纤环位置处磁场均为非均匀磁场，光纤环距离加热片较近处的磁通密度呈现环状分布，距离加热片较远处的磁通密度呈中心强周围弱分布；随着光纤环平面与加热片间的距离增加，光纤环平面上单层加热片的磁通密度最大值约为双层加热片的30至122倍；双层加热片磁场对光纤陀螺仪磁敏感相位误差随磁场方向与光纤环之间的角度呈现倾斜正弦变化；单层和双层加热片在光纤环下表面处产生的磁场磁敏感相位误差分别为1.299×10⁻¹⁰ rad和5.572×10⁻¹² rad。以上结果证明了双层加热片磁场对光纤陀螺仪的干扰远小于单层加热片，双层加热片产生的电磁干扰更小，更有利于提升光纤陀螺仪的精度。

光学陀螺作为光电惯性导航系统的核心器件，在众多领域发挥着举足轻重的作用。随着科学技术的不断进步，传统的激光陀螺、轻质化的光纤陀螺以及集成化的微光陀螺齐头并进、蓬勃发展，但无论是哪一种陀螺样式，在性能优化的过程之中都不可避免地需要考虑背向散射的问题。背向散射是光学陀螺中的一种噪声源，其会带来陀螺的输出偏置或闭锁效应，从而影响其性能。为了更好地理解光学陀螺中的背向散射机制，首先从半经典理论下的自洽方程组出发讨论背向散射的基本原理，而后依照光学陀螺的发展脉络，分析各种光学陀螺的背向散射分析方法、测量手段以及抑制方法，最后对目前光学陀螺中有关背向散射亟待解决的问题进行总结并展望。