作者单位
摘要
上海交通大学机械与动力工程学院,上海 200240
光学衍射层析成像以折射率为内源性染剂,非侵入式地获取生物样本的三维结构信息,并有希望实现对活体样本(如活细胞等)的长时间动态观测,在生物医学和生命科学领域具有重要的意义。然而,光学衍射层析成像依赖于弱散射近似和干涉测量,前者极大地限制此项技术在集群细胞和组织等厚样本上的观测表现,后者则会显著地增加成像系统的复杂度。针对上述问题,研究人员开发了一类基于非干涉强度测量原理的衍射层析成像技术。首先,对非干涉强度衍射层析成像进行基本描述,包括其成像系统、成像指标和重建问题等;接下来从非干涉相位恢复、三维光学传递函数、多层递归正向传播模型和神经网络4条技术路线介绍非干涉强度衍射层析成像的研究成果和最新进展,并对上述方法进行对比;最后讨论当前面临的问题和挑战以及未来的研究方向。
衍射层析成像 非干涉强度测量 正向物理成像模型 三维折射率重建 
激光与光电子学进展
2024, 61(4): 0400001
魏婉雪 1,2何苗 3徐坚 1,2董大山 1,2,*
作者单位
摘要
1 北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京 100871
2 山西大学极端光学协同创新中心,山西 太原 030006
3 北京大学医学部医学技术研究院,北京 100871
光学衍射层析成像技术是一种新兴的对细胞和组织进行非侵入、无创伤、无标记快速三维成像的技术,在细胞代谢、病理和肿瘤诊断等方面都有很大的应用前景。传统的光学衍射层析成像技术视场范围较小,视野内仅有单个或数个细胞,难以直接观察到细胞间的相互作用,无法对散射较强的厚、大细胞进行成像,这在一定程度上限制了其进一步应用。针对视场范围较小的不足,提出了一种用满采集物镜的视场数的大视野光学衍射层析成像技术,可以获得更高的散射光子通量,提高成像质量,减弱伪影、振铃等边缘效应,视野内可以观测到多种状态的细胞和细胞间相互作用。结果表明,大视野光学衍射层析成像技术在兼具亚细胞分辨率和无标记活细胞长时程三维观测能力的同时,具有更大的视野、更小的边缘效应,生物应用前景更加广泛。
生物光学 光学显微成像 光学衍射层析成像 大视野 
中国激光
2023, 50(3): 0307109
作者单位
摘要
1 中国工程物理研究院 电子工程研究所, 四川 绵阳 621999
2 中国工程物理研究院 微系统与太赫兹研究中心, 四川 绵阳 621999
3 国防科技大学 电子科学与工程学院ATR实验室, 湖南 长沙 410073
从方程描述、方程求解和方程解析解三个层面, 对雷达成像和衍射层析的内在联系进行了系统性梳理.首先, 介绍了描述成像问题的电磁散射方程, 发现描述雷达的方程是二维的面积分方程, 而描述衍射层析的方程是三维的体积分方程.指出成像对象不同是导致方程不同的根源, 并利用等效原理建立了两种成像间的联系.其次, 指出两种成像的相同点是, 对非线性的电磁散射方程的线性化近似求解.最后, 指出两种成像的回波信号(在空间谱域)和成像目标(在空间域)均构成一组傅里叶变换对.给出了两种成像的解析解的统一数学模型, 即成像结果可表示为观测点(散射系数或散射势)卷积点扩展函数(PSF)的形式.通过PSF对两者的成像性能进行了比较.
雷达成像 衍射层析成像 电磁逆散射 等效原理 线性化近似 傅里叶成像 点扩展函数 radar imaging diffraction tomography inverse scattering equivalence principle linear approximation Fourier imaging point spread function 
红外与毫米波学报
2018, 37(4): 486
作者单位
摘要
1 北京科技大学北京市腐蚀、 磨蚀及表面技术重点实验室, 北京 100083
2 西南技术工程研究所, 重庆 400039
在普通X射线源上进行X射线衍射断层扫描成像检测晶体材料内部缺陷的研究极少, 短波长X射线衍射仪(short wavelength X-ray diffractometer, SWXRD)相比同步辐射装置, 体积小巧、 实用和维护费用低。 在SWXRD上进行X射线衍射断层扫描时, 缺陷边界的确定直接影响成像的质量和缺陷的辨别。 采用衍射强度阈值法对测试数据进行处理, 使得缺陷边界清晰可辨。 运用Gauss函数拟合测试数据探索各种因素对阈值大小的影响, 解决阈值设定的难题。 通过研究置于铝粉中的不同直径像质计对阈值大小的影响, 发现阈值为基体强度的91%较合适。 然后测试铝板上的细缝进一步验证了阈值法对缺陷边界的改善和阈值选择的准确性。
短波长X射线 衍射层析成像 阈值法 内部缺陷 晶体材料 Short wavelength X-ray Diffraction tomography Threshold value method Internal defect Crystal materials 
光谱学与光谱分析
2011, 31(6): 1712

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