激光与光电子学进展, 2018, 55 (6): 061203, 网络出版: 2018-09-11  

多点实时光刻机光源照度均匀度检测系统设计 下载: 1154次

Design of Multi-Point Real-Time Lithography Light Source Uniformity Detection System
作者单位
1 长春理工大学光电测控与光信息传输技术教育部重点实验室, 吉林 长春 130022
2 中国科学院重庆绿色智能技术研究院集成光电中心, 重庆 400714
图 & 表

图 1. 照度均匀性检测系统组成示意图

Fig. 1. System structure of the illuminance uniformity detection equipment

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图 2. 照度均匀性检测系统实物图

Fig. 2. Picture of illuminance uniformity detection equipment

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图 3. 改进型电流-电压放大电路

Fig. 3. Improved current-voltage amplifying circuit

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图 4. 探测器单元放置在照面的位置

Fig. 4. Positions of the detector units placed

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图 5. 曝光机照度均匀度检测实验图

Fig. 5. Picture of exposure machine illumination uniformity test

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图 6. 探测器单元的光电特性标定曲线

Fig. 6. Photoelectric characteristic calibration curve of detector unit

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图 7. 修正后的探测器单元的光电特性标定曲线

Fig. 7. Calibration curves of photoelectric characteristic of the detector unit after correction

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表 1中心照面光功率为9.6 mW/cm2的探测器单元输出电压的重复性

Table1. Repeatability of output voltage of detector units with the luminous power of 9.6 mW/cm2

No.Output voltage /mV
Group 1Group 2Group 3Group 4Group 5
1735736731738738
2746749749750747
3749740746741745
4796799792792794
5782781788783785

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表 2中心照面光功率为12.5 mW/cm2的探测器单元输出电压的重复性

Table2. Repeatability of output voltage of detector units with the luminous power of 12.5 mW/cm2

No.Output voltage /mV
Group 1Group 2Group 3Group 4Group 5
1895893893896891
2917918919916918
3915919919919912
4970968974973971
5953951956954953

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表 3中心照面光功率为15.5 mW/cm2的探测器单元输出电压的重复性

Table3. Repeatability of output voltage of detector units with the luminous power of 15.5 mW/cm2

No.Output voltage /mV
Group 1Group 2Group 3Group 4Group 5
110751073107310761071
210861088108910861088
310851089108910891082
411531158115411531151
511331131113611341133

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表 4检测系统的准确度

Table4. Accuracy of the detection system

Group1Group1Group1Group1Group1
97.0%97.0%96.9%97.0%97.1%

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赵可为, 谭艾英, 尹韶云, 蔡文涛, 杨若夫, 陈建军, 佟首峰. 多点实时光刻机光源照度均匀度检测系统设计[J]. 激光与光电子学进展, 2018, 55(6): 061203. Kewei Zhao, Aiying Tan, Shaoyun Yin, Wentao Cai, Ruofu Yang, Jianjun Chen, Shoufeng Tong. Design of Multi-Point Real-Time Lithography Light Source Uniformity Detection System[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2018, 55(6): 061203.

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