亚稳态氖原子光刻的实验研究

霍芸生; 蔡惟泉; 曾庆林; 鄢和明; 王育竹

中国激光, 2003, 30 (1): 22, 网络出版: 2006-06-27

亚稳态氖原子光刻的实验研究

Experimental Study on Metastable-neon Atom Lithography

霍芸生蔡惟泉曾庆林鄢和明王育竹

作者单位

中国科学院上海光学精密机械研究所量子光学开放实验室,上海,201800

图 & 表

霍芸生, 蔡惟泉, 曾庆林, 鄢和明, 王育竹. 亚稳态氖原子光刻的实验研究[J]. 中国激光, 2003, 30(1): 22. 霍芸生, 蔡惟泉, 曾庆林, 鄢和明, 王育竹. Experimental Study on Metastable-neon Atom Lithography[J]. Chinese Journal of Lasers, 2003, 30(1): 22.