吕文思 1,2吴宏昌 1,3李艳丽 1,*孔祥东 1,2,**韩立 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院电工研究所,北京 100190
2 中国科学院大学电子电气与通信工程学院,北京 100049
3 兰州大学物理科学与技术学院,甘肃 兰州 730000
X射线多层膜是X射线光学领域的重要反射元件,可利用X射线的布拉格反射实现特定波段X射线的高效反射。多层膜的反射率与膜层材料和膜层结构密切关系,根据多层膜的工作原理,对于高能波段的X射线,为获得较大掠射角下的高反射率,通常需要多层膜具有更小的周期厚度和更大的周期数,因此高精度薄膜生长技术是X射线多层膜元件制备的必要条件。本文研究了基于原子层沉积技术的X射线多层膜的制备,首先利用Fresnel系数递推法计算出HfO2/Al2O3、Ir/Al2O3、Ru/Al2O3、W/Al2O3四种材料组合的多层膜的反射率,讨论了材料组合、周期厚度、周期数、占空比等参数对多层膜反射率的影响。在此基础上,选取并制备了周期厚度为4 nm、周期数为60、占空比为0.5的HfO2/Al2O3 X射线多层膜。X射线(0.154 nm)反射率的分析结果显示,该多层膜的周期厚度为3.86 nm,反射率约43%,多层膜截面的透射电子显微镜(TEM)图显示膜层间界面清晰。该结果验证了原子层沉积法制备小周期厚度X射线多层膜元件的可行性。
原子层沉积 X射线 多层膜 反射率 
光学学报
2024, 44(4): 0431002
谭明生 1,3明帅强 1吴雨菲 1,3卢维尔 1,3,*[ ... ]韩立 2,3
作者单位
摘要
1 中国科学院微电子研究所,北京 100029
2 中国科学院电工研究所,北京 100190
3 中国科学院大学,北京 100049
4 中国科学院上海高等研究院上海同步辐射光源,上海 201800
针对X射线波带片对大高宽比的应用需求,采用原子层沉积法在光滑的金属丝表面生长膜厚可高精度控制的多层膜环带结构,再利用聚焦离子束切片技术获得大高宽比的多层膜X射线波带片。采用复振幅叠加法设计了以Al2O3/HfO2分别为明环和暗环材料的X射线波带片,实验上利用原子层沉积在直径为72 μm的金丝表面交替沉积了10.11 μm的Al2O3/HfO2多层膜,环带数为356,总直径为92.22 μm,最外环宽度为25 nm。通过聚焦离子束切割得到高为1.08 μm、高宽比达43∶1的X射线多层膜菲涅耳波带片。该波带片应用于上海光源(BL08U1A)软X射线成像线站时,在1.2 keV X射线下实现聚焦成像功能,展现出利用该技术制备多层膜X射线波带片的潜力。
X射线菲涅耳波带片 原子层沉积 聚焦离子束 大高宽比 多层膜 
光学学报
2023, 43(11): 1134001
作者单位
摘要
宁波大学压力容器与管道安全浙江省工程研究中心, 宁波 315000
干湿交替和硫酸盐腐蚀引起的损伤严重影响导电混凝土服役时的长期稳定性。本研究以碳纤维、石墨作为导电相材料, 掺入粉煤灰和硅灰制备导电混凝土, 在干湿交替和硫酸盐腐蚀耦合作用下, 讨论粉煤灰、硅灰掺量对导电混凝土力学性能与电学性能的影响。综合导电混凝土的力学性能与电学性能衰变定义了服役性能劣化指标。结果表明: 掺入粉煤灰和硅灰后提升了导电混凝土在干湿交替和硫酸盐腐蚀下的耐久性和导电稳定性; 当粉煤灰和硅灰的总掺量一定时, 提高粉煤灰占比能够有效降低干湿交替和硫酸盐腐蚀造成的强度损失, 并提高导电混凝土的导电稳定性。
导电混凝土 干湿交替 硫酸盐腐蚀 电阻率 配合比 优化设计 conductive concrete alternating wetting and drying sulfate corrosion electrical resistivity mix ratio optimal design 
硅酸盐通报
2023, 42(2): 463
作者单位
摘要
中国科学院电工研究所, 北京 100190
MgB2作为迄今为止超导转变温度最高的合金超导体, 由于其具有结构简单、 相干长度长、 晶界间不存在弱连接、 上临界场很高、 电-声散射时间短等特点, MgB2超导薄膜在电子学领域有着广阔的的应用前景。 拉曼光谱是研究电-声子相互作用和超导能带的一种有效方法, 且已广泛用于分析MgB2材料的电子、 声子特征以及超导体能带结构, 研究表明, 样品质量、 晶粒尺寸以及测试条件对MgB2拉曼峰的峰位和峰形影响很大, 其中拉曼光谱随温度的变化也是一个研究重点, 但目前关于MgB2变温拉曼光谱的研究, 测试的温度范围相对较小, 局限在83 K到室温区域或是转变温度附近。 研究了大范围温度区间内MgB2薄膜的拉曼光谱变化, 采用混合物理化学沉积法在(0001)SiC衬底上制备了MgB2多晶薄膜, 薄膜的晶粒尺寸约为300 nm, 超导转变温度为39.3 K, 对其在10~293 K之间的拉曼光谱进行了测试, 测量的波数范围为20~1 200 cm-1。 变温拉曼光谱的测试结果显示, 在高频620 cm-1附近以及低频80和110 cm-1附近存在MgB2的拉曼峰。 经分析, 低频区域出现的两个拉曼峰的频率与超导能隙宽度相对应, 表明MgB2的双能隙特性。 考虑到MgB2中四种声子模式的拉曼活性, 高频620 cm-1附近的拉曼峰应是由E2g振动模所贡献的, 且随着测试温度的降低, 该拉曼峰的峰位未发生明显的偏移, 但半高宽显著变小, 从293 K时的380.7 cm-1减小到10 K时的155 .7 cm-1, 分析表明E2g声子与电子系统的非线性耦合所引起的非简谐效应可能是拉曼峰半高宽线性变小的主要原因。
薄膜 变温 拉曼光谱 MgB2 Film Different temperature Raman spectra MgB2 
光谱学与光谱分析
2021, 41(11): 3451
高雅增 1,2,4吴鹿杰 1,5卢维尔 1,2,4,*刘虹遥 1,2,**[ ... ]韩立 3
作者单位
摘要
1 中国科学院微电子研究所, 北京 100029
2 中国科学院大学微电子学院, 北京 101407
3 中国科学院电工研究所, 北京 100080
4 北京市微电子制备仪器设备工程技术研究中心, 北京 100029
5 北京交通大学理学院, 北京 100044
菲涅耳波带片(FZP)能实现光源聚焦,是硬X射线显微成像最重要的组成元件之一。分辨率与衍射效率是FZP最重要的两个参数,但在实际设计与制备中,两者往往难以同时兼顾。因此,提出了一种基于严格耦合波理论的硬X射线FZP设计方法。该方法在指定分辨率的基础上优化衍射效率,给出了硬X射线FZP组成材料、环带宽度、外径、厚度以及厚度控制精度等参数的优化值。同时考虑到材料色散的影响,给出了最优衍射效率随光源能量变化的分布情况,为显微成像中的光源选择提供了参考。
成像系统 菲涅耳波带片 分辨率 衍射效率 严格耦合波 硬X射线 
光学学报
2021, 41(11): 1111002
吴鹿杰 1,3文庆涛 1,3高雅增 1,2,5卢维尔 1,2,5[ ... ]韩立 2,4
作者单位
摘要
1 中国科学院微电子研究所 微电子仪器设备研发中心,北京00029
2 中国科学院大学,北京101407
3 北京交通大学 理学院,北京100044
4 中国科学院电工研究所,北京100080
5 北京市微电子制备仪器设备工程技术研究中心,北京100029
基于原子层沉积与聚焦离子束切割抛光相结合的工艺,提出了一种多层膜型波带片制备技术。利用耦合波理论计算出最外环宽为10 nm的Al2O3/HfO2、Al2O3/SiO2、Al2O3/Ir和Al2O3/Ta2O5四种材料组合的多层膜波带片在X射线能量为8 keV和15 keV时的菲涅尔波带片的理论衍射效率,讨论了最外环宽和波带片高度对衍射效率的影响,选择了Al2O3/HfO2为后续叠层制备。研究了原子层沉积制备Al2O3和HfO2薄膜的生长特性,验证了原子层沉积技术制备单层膜厚为10 nm叠层结构的可行性,实验结果表明,利用原子层沉积技术制备Al2O3和HfO2薄膜粗糙度可控在1 nm,均匀性优于±1.5%,单叠层厚度误差仅为0.416 nm.同时,利用聚焦离子束切割抛光技术得到了最外环宽为10 nm,高宽比200的高分辨率X射线菲涅尔波带片。
菲涅尔波带片 原子层沉积 聚焦离子束 高分辨率 耦合波理论 Fresnel zone plate Atomic layer deposition Focused ion beam High resolution Coupled wave theory 
光子学报
2021, 50(1): 156
李艳丽 1,2,*李辉 2,3孔祥东 1,2韩立 1,2李晓娜 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院电工研究所 电子束曝光技术研究组, 北京 100190
2 中国科学院大学, 北京 100049
3 中国科学院电工研究所 太阳能电池技术研究部, 北京 100190
为研究电子束退火对Li-N共掺杂ZnO薄膜性能的影响,首先利用溶胶-凝胶旋涂法在p型Si(111)衬底上制备Li-N共掺杂的ZnO前驱膜,然后用电子束对前驱膜进行退火。退火时,电子束加速电压10 kV,退火时间5 min,聚焦束流123 mA,束流为0.7~1.9 mA,最后得到Li-N共掺杂的ZnO薄膜。XRD谱分析表明,当束流高于1.5 mA之后,薄膜为六方ZnO和立方ZnO的混合多晶薄膜,且有金属Zn生成,导致薄膜有较强的绿光发射。SEM图片分析显示,薄膜的晶粒尺寸随束流增加而增大,当束流高于1.5 mA后,晶粒尺寸变化不大,约为60 nm。光致发光(PL)谱和激光拉曼谱的分析结果证实Li、N元素已掺入ZnO晶格中,PL谱中观察到Li元素掺杂引起的紫光发射,拉曼散射光谱中观察到N替代O位的缺陷振动模式。
电子束退火 掺杂 多晶 ZnO薄膜 electron beam annealing doping polycrystalline ZnO thin film 
发光学报
2018, 39(3): 293
作者单位
摘要
1 山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061
2 山东科技大学,信息与电气工程学院,山东,青岛,266510
3 东营职业学院,山东,东营,257091
为了精确地确定电子束曝光剂量与刻蚀深度间的关系,根据抗蚀剂的灵敏度曲线,采用反差经验公式来确定剂量与刻蚀深度间的关系.选用正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验,将计算值进行曲线拟合,得到的关系曲线与实验结果基本相符.当剂量在20~35 μC/cm2间时,实验值与计算值间的差值最小,说明当剂量在此范围内时该方法能够更加精确地确定剂量与刻蚀深度间的关系.采用该方法节省了实验时间,提高了刻蚀效率.
电子束光刻 曝光剂量 刻蚀深度 反差 吸收能量密度 
强激光与粒子束
2007, 19(8): 1377
作者单位
摘要
1 山东大学,化学与化工学院,济南,250100
2 东营职业学院,科研处,山东,东营,257091
3 山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061
提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念,对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现溶解速度随曝光剂量增加而增大.以此为依据,在SDS-3型电子束曝光机上采用20 keV能量的电子束对570 nm厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了7次重复增量扫描曝光实验,得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥3维结构,证明了电子束重复增量扫描曝光技术的可行性,为电子束加工3维结构提供了新工艺.
电子束曝光 吸收能量密度 剂量 溶解速度 抗蚀剂 
强激光与粒子束
2007, 19(3): 503

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