如何快速、实时地计算与绘制多雷达传感器覆盖范围是目前雷达仿真的重点和难点。为解决此问题，在分析国内外研究成果基础上引入CGAL开源库，提出了一种解决方法，并基于典型的三角网格求交算法和Delaunay三角剖分算法进行了仿真分析。仿真结果充分验证了所提解决方法的有效性、合理性与实用性。
多雷达传感器 数据融合 覆盖范围 仿真 multi radar sensor data fusion coverage simulating CGAL CGAL
同济大学 精密光学工程技术研究所，上海 200092
介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法.由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法.实验中,选用cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜.反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2.25 g/cm3,沉积速率为0.058 nm/s.
X射线衍射仪 低原子序数材料 反射率测试 薄膜 XRD low-Z material reflectivity measurement thin films 光学 精密工程
2007, 15(12): 1838
1 同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092
2 中国科技大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029
作为应用于第三代同步辐射光源的一种重要X射线元件,复合折射透镜成为近年来X射线光学研究的热点之一.平面抛物形折射透镜是复合折射透镜的重要一种.研究过程中,考虑到X射线衍射仪的特定检测环境及随后加工上的技术要求,优化设计了透镜各个参数,用ZEMAX软件对透镜进行光线追迹,模拟验证了设计结果.单组透镜的几何孔径为250 μm,焦距为30 cm.共设计30组透镜,透镜个数从1个变化到30个,相应的抛物形顶点处的曲率半径从1.23μm变化到37μm.在光子能量为8.05 keV条件下,透镜的理论透过率从43.3%变化到33.2%.焦斑直径均在微米量级.采用紫外光刻微加工技术,制作了SU-8光刻胶平面抛物形折射透镜.透镜厚度为224 μm.透镜光学性能的测试正在进行中.
抛物形折射透镜 X射线 聚焦 X射线衍射仪 紫外光刻 SU-8
1 同济大学物理系精密光学工程与技术研究所,上海 200092
2 中国科技大学国家同步辐射实验室, 合肥 230029
波长30.4 nm的He-II谱线是极紫外天文观测中最重要的谱线之一,空间极紫外太阳观测光学系统需要采用多层膜作为反射元件。为此研究了SiC/Mg、B4C/Mg、C/Mg、C/Al、Mo/Si、B4C/Si、SiC/Si、C/Si、Sc/Si等材料组合的多层膜在该波长处的反射性能。基于反射率最大与多层膜带宽最小的设计优化原则,选取了SiC/Mg作为膜系材料。采用直流磁控溅射技术制备了SiC/Mg多层膜,用X射线衍射仪测量了多层膜的周期厚度,用国家同步辐射计量站的反射率计测量了多层膜的反射率,在入射角12°时,实测30.4 nm处的反射率为38.0%。
薄膜光学 极紫外 多层膜 磁控溅射 同步辐射 太阳He-Ⅱ谱线
同济大学物理系精密光学工程技术研究所, 上海 200092
针对4.48 nm类镍钽软X射线激光及其应用实验, 设计制备了工作于这一波长的近正入射多层膜高反射镜。选择Cr/C为制备4.48 nm高反射多层膜的材料对, 通过优化设计, 确定了多层膜的周期、周期数以及两种材料的厚度比。模拟了多层膜非理想界面对高反射多层膜性能的影响。采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上实现了200周期Cr/C多层膜高反射镜的制备。利用X射线衍射仪测量了多层膜结构, 在德国Bessy Ⅱ同步辐射上测量了在工作波长处多层膜反射率, 测量的峰值反射率达7.5％。对衍射仪测量的掠入射反射曲线和同步辐射测量的反射率曲线分别进行拟合, 得到的粗糙度和厚度比的结果相近。测试结果表明, 所制备的Cr/C多层膜样品结构良好, 在指定工作波长处有较高的反射峰, 达到了设计要求。
X射线光学 软X射线 多层膜 磁控溅射 反射率
同济大学精密光学工程技术研究所 物理系,上海 200092
设计并制备了工作波长为4.48 nm类镍钽软X射线激光用多层膜反射镜.选择Cr/C、Cr/Sc为多层膜材料对,模拟了多层膜非理想界面对多层膜反射率的影响.采用直流磁控溅射技术在超光滑硅基片上制备了Cr/C、Cr/Sc多层膜.利用X射线衍射仪测量了多层膜结构,在德国Bessy Ⅱ同步辐射上测量了多层膜的反射率,Cr/C,Cr/Sc多层膜峰值反射率分别为7.50%,6.12%.
X光激光 多层膜 反射镜 磁控溅射 同步辐射
Author Affiliations
Abstract
1 Institute of Precision Optical Engineering, Physics Department, Tongji University, Shanghai 200092
2 National Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China, Hefei 230029
The B4C/Mo/Si high reflectivity multilayer mirror was designed for He-II radiation (30.4 nm) using the layer-by-layer method. The theoretical peak reflectivity was up to 38.2% at the incident angle of 5 degrees. The B4C/Mo/Si multilayer was fabricated by direct current magnetron sputtering and measured at the National Synchrotron Radiation Laboratory (NSRL) of China. The experimental reflectivity of the B4C/Mo/Si multilayer at 30.4 nm was about 32.5%. The promising performances of the B4C/Mo/Si multilayer mirror could be used for the construction of solar physics instrumentation.
极紫外光学 多层膜 磁控溅射 同步辐射 He-II谱线 230.4170 Multilayers 340.7470 X-ray mirrors 340.6720 Synchrotron radiation Chinese Optics Letters
2006, 4(10): 611
同济大学,精密光学工程技术研究所,上海200092
利用直流磁控溅射方法制备了质量厚度为200 μg·cm-2,直径为20 mm的自支撑金属Zr滤光膜.用同步辐射光源和紫外可见分光光度计分别测量了滤光膜在软X射线和可见光波段的透射率,用俄歇电子能谱(AES)分析了膜中的元素含量.结果表明:Zr膜在13.9 nm波长的透射率达19%, 对可见光的抑制性能达43 dB.杂质、膜层氧化及表面污染是影响滤光膜软X射线光谱透射率的主要因素.
X射线激光 滤光膜 透射率 直流磁控溅射 Zr
