作者单位
摘要
1 合肥清溢光电有限公司, 合肥238000
2 深圳清溢光电股份有限公司,广东深圳518053
基于衍射条纹的产生机理,从图形设计和腔室环境方面提出改善措施,设置不同的重叠区与图形重叠占比、不同的重叠区位置类型以及不同腔室温度和相对湿度波动,观察版材的衍射条纹变化。试验表明,随着重叠区与图形重叠比例的增加,其衍射条纹不良的严重程度逐渐增加;与混合重叠区位置类型相比,采用单一重叠区位置类型在衍射条纹上表现更佳;腔室温度波动超过0.01℃、相对湿度波动超过32%时,聚焦气流波动超标,衍射条纹不良明显变严重。通过管控图形设计和光刻温湿度,在一定程度上可以降低衍射条纹的发生,对于其他条纹不良的改善也有一定的借鉴意义。
光掩膜版 衍射条纹 不良重叠区 位置类型 温湿度 photomask plate diffraction mura overlap location type temperature and humidity 
光电子技术
2022, 42(1): 22
作者单位
摘要
1 合肥清溢光电有限公司,合肥2300
2 深圳清溢光电股份有限公司,广东深圳518053
针对现有激光化学气相沉积设备在寻找掩膜版缺陷点时存在镜头移动行程长、镜头频繁失焦的问题,采用基于2⁃opt邻域搜索的蚁群算法来优化设备的修复缺陷点顺序。相对于传统的X/Y轴升序排列,此方法能够有效缩短镜头寻点时间、降低失焦概率。为加快处理大规模缺陷点时的算法速度,提出设置蚁群近邻搜索范围、2⁃opt固定半径邻域搜索以及设置不检测标记的加速策略来改善2⁃opt蚁群算法的收敛时间和优化质量。实验证明,改善后的2⁃opt蚁群算法路径优化率超过92.5%,最快算法时间仅为5.72 s,失焦率仅仅为0.28%,相比基本蚁群算法和基本2⁃opt蚁群算法,改善后的2⁃opt蚁群算法在路径优化质量、优化时间以及保证镜头焦距稳定方面更具优势。
掩膜版 缺陷点 激光化学气相沉积 两元素邻域搜索 蚁群算法 路径优化 photomask defect LCVD 2-opt neighborhood search ACO path optimization 
光电子技术
2021, 41(4): 274
作者单位
摘要
1 福州京东方光电科技有限公司, 福建 福州 350300
2 北京京东方传感技术有限公司, 北京 100176
为了维修TFT-LCD电路缺陷, 利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜, 讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下, 波长为351 nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜, 通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响, 再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明, 激光功率或激光束光斑尺寸越大, 薄膜基底损伤越大, 但电阻率越小, 且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤; 激光辐射速度越大, 基底损伤越小, 但电阻率越大。通过平衡工艺参数, 得到了电阻率为0.96 Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜, 成分分析表明此时W(CO)6已经完全裂解。
激光化学气相沉积法 缺陷维修 电阻率 TFT-LCD TFT-LCD laser chemical vapor deposition defect repair W(CO)6 W(CO)6 electrical resistivity 
液晶与显示
2019, 34(8): 755

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