范丽莎 1,2,3刘帆 1,2,3吴国龙 1,2,3VolodymyrS. Kovalenko 1,2,3,4姚建华 1,2,3,*
1 浙江工业大学激光先进制造研究院，浙江 杭州 310023
2 浙江工业大学机械工程学院，浙江 杭州 310023
3 高端激光制造装备省部共建协同创新中心，浙江 杭州 310023
4 乌克兰国立科技大学激光技术研究所，乌克兰 基辅 03056
激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点，在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术，本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发解离作用机制，同时介绍了各类LCVD的常用设备，着重总结了LCVD在金属材料、碳基材料、氧化物材料以及半导体材料等各类材料制备应用上的最新研究进展，特别介绍了LCVD制备过程中常用的检测与分析方法，最后讨论了激光化学气相沉积技术目前所面临的挑战与机遇，并展望了该技术的发展前景。
1 合肥清溢光电有限公司，合肥2300
2 深圳清溢光电股份有限公司，广东深圳518053
针对现有激光化学气相沉积设备在寻找掩膜版缺陷点时存在镜头移动行程长、镜头频繁失焦的问题，采用基于2⁃opt邻域搜索的蚁群算法来优化设备的修复缺陷点顺序。相对于传统的X/Y轴升序排列，此方法能够有效缩短镜头寻点时间、降低失焦概率。为加快处理大规模缺陷点时的算法速度，提出设置蚁群近邻搜索范围、2⁃opt固定半径邻域搜索以及设置不检测标记的加速策略来改善2⁃opt蚁群算法的收敛时间和优化质量。实验证明，改善后的2⁃opt蚁群算法路径优化率超过92.5%，最快算法时间仅为5.72 s，失焦率仅仅为0.28%，相比基本蚁群算法和基本2⁃opt蚁群算法，改善后的2⁃opt蚁群算法在路径优化质量、优化时间以及保证镜头焦距稳定方面更具优势。
掩膜版 缺陷点 激光化学气相沉积 两元素邻域搜索 蚁群算法 路径优化 photomask defect LCVD 2-opt neighborhood search ACO path optimization
1 福州京东方光电科技有限公司, 福建 福州 350300
2 北京京东方传感技术有限公司, 北京 100176
为了维修TFT-LCD电路缺陷, 利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜, 讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下, 波长为351 nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜, 通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响, 再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明, 激光功率或激光束光斑尺寸越大, 薄膜基底损伤越大, 但电阻率越小, 且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤; 激光辐射速度越大, 基底损伤越小, 但电阻率越大。通过平衡工艺参数, 得到了电阻率为0.96 Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜, 成分分析表明此时W(CO)6已经完全裂解。
激光化学气相沉积法 缺陷维修 电阻率 TFT-LCD TFT-LCD laser chemical vapor deposition defect repair W(CO)6 W(CO)6 electrical resistivity
1 华中科技大学 激光工程研究院，武汉 430074
2 清溢精密光电有限公司，深圳 518000
为了对光掩模版亮场缺陷进行修补，采用激光化学气相沉积的方法，利用功率密度为1．3×108W／cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解，在1．5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明，在开放的环境下，采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜，满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。
激光技术 光化学 光掩模修复 激光化学气相沉积 开放式 laser technique photochemistry photomask repair laser induced chemical vapor deposition(LCVD) open air
1 长沙大学电子与通信工程系,长沙,410003
2 湖南大学物理与微电子科学学院,长沙,410082
利用激光化学气相沉积(LCVD)方法，以钛金属有机化合物为前驱体，以O2为反应气体，在激光功率PL为0～200 W、基板预热温度为400～700℃的条件下，制备出了金红石型TiO2薄膜和金红石型与锐钛矿型混合TiO2薄膜。研究表明，激光功率和基板预热温度对所沉积的TiO2薄膜的物相组成、截面组织，表面形貌和薄膜生长速度均有着显著的影响。
功能材料 二氧化钛 激光化学气相沉积 薄膜
用波长为308 nm XeCl准分子激光辐射光解羰基锰二聚物Mn2(CO)10和羰基钨W(CO)。沉积锰和钨薄膜,研究了实验参量与薄膜特性之间的关系。
激光化学气相沉积
