作者单位
摘要
1 昆明物理研究所,云南昆明 650223
2 空军装备部驻北京地区第一军事代表室,北京 100083
3 空军装备部驻昆明地区军事代表室,云南昆明 650031
对于在低温背景条件下应用的红外焦平面探测器,在其设计阶段首先需要确认的是探测器在低温背景下的主要性能参数是否满足应用需求。通过单元探测器的基本理论公式,从性能测试的角度,推导出了焦平面探测器主要性能指标的理论计算公式,包括峰值响应率、噪声、峰值探测率、动态范围等。提出了红外焦平面探测器主要性能参数计算的设计流程,并通过实例对长波红外焦平面探测器在低温背景下的性能参数进行了计算、设计及验证,实测结果与理论计算符合较好。表明了理论公式及设计流程具有较好的实用性,可为红外焦平面探测器的应用设计提供参考。
红外焦平面探测器 低温背景 性能参数 计算及设计 infrared FPA detector,low temperature background 
红外技术
2023, 45(5): 553
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南 昆明 650223
表面处理是碲镉汞(HgCdTe)红外探测器芯片制作流程的开始,其效果会直接影响芯片的良品率。采用金相显微镜、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)分析手段,探究了碲镉汞表面处理工艺中四种典型的表面异常现象的成因,并提出了相应的控制措施。水痕缺陷的形成机理为吸氧腐蚀,通过稳定氮气气流快速将晶片表面吹干可以控制该缺陷的形成;染色现象的成因为腐蚀液被不均匀稀释或腐蚀液被水等杂质污染,工艺中应严格避免杂质的污染,腐蚀结束后快速冲洗表面;圆斑现象是由于缺陷处吸附清洗液引起,采用异丙醇浸泡后再干燥可以降低该缺陷出现的概率;甲苯与HgCdTe表面直接接触时会导致碲镉汞表面粗糙度增大,工艺中需要避免甲苯和HgCdTe表面的直接接触。
碲镉汞 表面处理 水痕缺陷 染色现象 圆斑现象 过粗糙现象 HgCdTe surface treatment water marks staining round spot over-roughness 
红外与毫米波学报
2023, 42(2): 149
作者单位
摘要
1 中国科学院紫金山天文台南京 210023
2 中国科学技术大学合肥 230026
先进天基太阳天文台卫星(Advanced Space-based Solar Observatory,ASO-S)是我国科学家提出的专用于观测太阳的科学卫星。硬X射线成像仪(Hard X-ray Imager,HXI)是ASO-S的三个科学载荷之一,HXI的量能器由99个溴化镧晶体-光电倍增管探测单元构成。量能器的前端电子学采用了一种型号为IDE3381的高集成度电荷测量ASIC(Application-specific Integrated Circuit),利用它在空间和功率受限的卫星平台上实现了对99路探测单元信号的处理。为了评估IDE3381在空间辐射环境中的抗辐照性能,设计了一套自动化测试系统,用重离子束流和60Co γ源分别进行了单粒子效应(包括单粒子翻转和单粒子闩锁)和总剂量辐照效应试验。测试结果表明:ASIC IDE3381的抗辐照性能满足HXI飞行件的要求。
空间电子学 辐照效应 高集成度电荷测量ASIC Space electronics Radiation effects Application-specific integrated circuit (ASIC) 
核技术
2023, 46(3): 030203
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南 昆明 650223
碲镉汞线性雪崩焦平面探测器具有高增益、高带宽及低过剩噪声等特点,在航空航天、天文观测、**装备及地质勘探等领域展现了巨大的应用潜力。目前,国内已经开展了碲镉汞线性雪崩焦平面器件的研制工作,但缺乏评价其性能的方法及标准,同时对其的应用仍然处于探索阶段。首先分析了表征线性雪崩焦平面器件性能的关键参数,同时基于碲镉汞线性雪崩焦平面器件的特点,探讨了雪崩焦平面器件在主/被动红外成像、快速红外成像等领域的应用,最后对碲镉汞雪崩焦平面器件的未来发展进行了展望。
碲镉汞 APD 性能评价 主被动双模成像 快速红外成像 HgCdTe APD performance evaluation active/passive dual-mode imaging fast infrared imaging 
红外与激光工程
2023, 52(3): 20220698
作者单位
摘要
1 昆明物理研究所,云南 昆明 650223
2 陆军装备部驻重庆地区军事代表局驻昆明地区第一军事代表室,云南 昆明 650223
基于当前红外探测器技术的发展方向,从高工作温度红外探测器应用需求的角度分析了碲镉汞高工作温度红外探测器在组件重量、外形尺寸、功耗、环境适应性及可靠性方面的优势。总结了欧美等发达国家在碲镉汞高工作温度红外探测器研究方面的技术路线及研究现状。从器件暗电流和噪声机制的角度分析了碲镉汞光电器件在不同工作温度下的暗电流和噪声变化情况及其对器件性能的影响;总结了包括基于工艺优化的Hg空位p型n-on-p结构碲镉汞器件、基于In掺杂p-on-n结构和Au掺杂n-on-p结构的非本征掺杂碲镉汞高工作温度器件、基于nBn势垒阻挡结构的碲镉汞高工作温度器件及基于吸收层热激发载流子俄歇抑制的非平衡模式碲镉汞高工作温度器件在内的不同技术路线碲镉汞高工作温度器件的基本原理,对比分析了不同技术路线碲镉汞高工作温度器件的性能及探测器制备的技术难点。在综合分析不同技术路线高温器件性能与技术实现难度的基础上展望了碲镉汞高工作温度器件技术未来的发展方向,认为基于低浓度掺杂吸收层的全耗尽结构器件具备更好的发展潜力。
碲镉汞 俄歇抑制 SRH抑制 暗电流 高工作温度 HgCdTe auger suppression SRH suppression dark currents HOT 
红外与激光工程
2021, 50(4): 20200328
作者单位
摘要
昆明物理研究所, 云南昆明 650223
介绍了欧美发达国家在高工作温度碲镉汞中波红外探测器上的工艺技术路线及典型产品技术指标。对昆明物理研究所研制的基于标准 n-on-p(Hg空位掺杂)工艺的中波 640×512(15 .m)探测器进行了高工作温度性能测试, 测试结果显示器件性能基本达到国外产品的同期研制水平。
碲镉汞 高工作温度 红外探测器 标准 n-on-p工艺 HgCdTe(MCT) HOT infrared detector standard n-on-p process 
红外技术
2017, 39(2): 116
作者单位
摘要
昆明物理研究所, 云南 昆明 650223
通过对 A版(初减薄)和 B版(终减薄)中波 320×256碲镉汞红外焦平面探测器组件进行可靠性试验, 并对其试验后的光电特性进行比较, 最终给出 B版焦平面探测器组件工作寿命的初步评价。
背减薄 焦平面探测器 工作寿命 back-thining IRFPA work life 
红外技术
2013, 35(10): 629
作者单位
摘要
1 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室 ,上海200083
2 英国兰卡斯特大学 物理系,英国 兰卡LA1 4YB, UK
采用改进的快速推舟液相外延技术在GaAs衬底上成功地生长了GaSb量子点材料.通过原子力显微镜观测了不同生长参数下GaSb量子点材料的形貌(形状、尺寸、密度、尺寸分布均匀性等).分析了不同衬底、不同生长源配比、生长源与衬底的不同接触时间等生长条件参数对GaSb量子点生长的影响.研究表明在 GaAs衬底上、富镓生长源配比以及较短的生长源和衬底接触时间下更易获得高质量的GaSb量子点.上述生长条件的摸索和研究对于GaSb量子点器件应用具有重要意义.
GaSb量子点 二类量子点结构 液相外延 原子力显微镜 GaSb quantum dots type-II QDs structure Liquid Phase Epitaxy atomic force microscopy 
红外与毫米波学报
2013, 32(3): 220
作者单位
摘要
1 昆明物理研究所, 云南 昆明 650223
2 上海通途半导体科技有限公司, 上海 201203
图像去噪要求在尽量保留有用信息完整性的基础上去除干扰信息, 同时保证去噪结果的时域稳定性。在非局部平均 NLM(Non-Local Means)算法的基础上提出了更加合理的图像三维去噪算法。该算法首先进行 NLM空域去噪, 然后再对空域去噪的结果进行加权平均的时域去噪。实验结果表明, 本算法和传统去噪算法相比具有去噪结果稳定并不模糊细节的优点, 为实际工程应用提供了技术支撑。
非局部平均 NLM 结构相似度 图像三维去噪 non-Local Means structure similarity image three-dimensional denosing 
红外技术
2013, 35(4): 238
作者单位
摘要
北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院, 北京 100191
在空间辐射环境下,光纤会产生辐射致衰减(RIA),严重影响光纤在辐射环境中的应用。为了保证光纤在辐射环境中的工作性能,需要对光纤辐射致衰减效应进行研究。从辐射与光纤相互作用的机理出发,说明了辐射条件下引起光纤主要衰减的色心的形成和退化,并详细分析了辐射条件、光纤参数和传导光波等因素对光纤辐射致衰减的影响。在此基础上,总结了光纤辐射致衰减的主要模型,包括幂律模型、多成分饱和指数模型和拓展多成分饱和指数模型等。最后,介绍了光纤辐射致衰减效应的应用。
光纤光学 辐射致衰减 损耗 辐射效应 
激光与光电子学进展
2012, 49(8): 080008

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