光学字符识别(OCR)难以针对图像中某些特定文本进行识别,尤其在实际场景中,识别结果通常会包含大量噪声文本。针对这一问题,提出一种基于循环神经网络的双向长短时记忆-条件随机场(BLSTM-CRF)模型。首先利用BLSTM网络捕获OCR识别结果中序列的上下文信息,得到特征序列;然后结合CRF建立模型特征与标签的关系,进行标签预测,通过标签即可得到特定文本。实验结果表明,该方法在场景图像数据集YNIDREAL上可以达到88.52%的准确率,相较于CRF模型,准确率提高了16.39个百分点,证明了本方法的可行性和稳健性。

在空间光通信系统中，为满足光学系统对滤光膜的特殊要求，研制出了一种近红外宽截止窄带滤光膜，实现了降低深背景范围内杂散光干扰的要求.通过对薄膜材料特性的研究、膜系设计曲线的不断优化，得到了相对易于制备的窄带滤光膜结构；采用电子束加热蒸发及离子辅助沉积技术制备薄膜，采用光控加晶控同时监控的方法监控膜层厚度，通过不断优化工艺参量，提高中心波长处的透过率，最终成功得到了光谱性能较好的滤光膜.经光谱测试表明：所镀膜层在800～1 530 nm、1 600～1 800 nm波段平均透过率低于0.3%，1 565 nm单点透过率高于92%，通带半带宽为18 nm，满足光学系统的使用要求.

二氧化硅(SiO2)是一种重要的光学薄膜材料，通常采用电子束蒸发辅以离子束轰击的方式沉积，但在某些情况下，不能借用氧离子束的轰击。着重研究了不同沉积温度下无离子源辅助制备的二氧化硅薄膜的光学特性。通过直接在线的光学监控方式，获得薄膜生长过程的透射率曲线，并得到薄膜在真空中的折射率。采用真空在线光谱扫描和大气中离线的光谱扫描，结合光度法拟合得到薄膜折射率。结果表明由于基片温度的变化，二氧化硅薄膜的折射率会随着薄膜的厚度而改变，随着沉积温度的升高而变大，折射率值在1.34~1.41之间。

采用脉冲激光沉积方法在单晶MgO基片上外延生长了BaTiO₃晶体薄膜.为改善薄膜的结晶质量和表面粗糙度, 研究并优化了生长工艺中生长温度和激光能量两个参量, 并对薄膜样片实行原位退火.找到了BaTiO3薄膜在优先方向上的结晶效果, 分析了结晶质量对生长温度的依赖关系和不同激光能量对结晶薄膜的表面粗糙度的影响.利用X射线衍射仪测定结晶效果与特性, 原子力显微镜表征BaTiO3薄膜的结晶表面形貌与粗糙度.测试结果表明, 在c轴取向生长BaTiO3薄膜, 在（001）和（002）方向上都出现强度很高的尖锐衍射峰, 具有较好的结晶质量和较小的表面粗糙度, 原子力显微镜测定出薄膜的表面粗糙度为0.563 nm.

通过双探针近场光学扫描显微镜在银纳米线上实现近场激发和近场收集表面等离子体，用一个探针在银纳米线的一端近场激发表面等离子体，另一个探针近场探测银纳米线上的表面等离子体强度分布，得到强度分布图.强度分布图显示表面等离子体在银纳米线的一端被有效激发并且有一部分表面等离子体沿着银纳米线和基底的界面传播到了另一端.用有限元法对银纳米线内的传播模式进行数值模拟，结果显示银纳米线内存在两种表面等离子体传播模式，分别为基模和高阶模.沿着银纳米线和基底介质之间传输的基模表面等离子体由于传输环境稳定，散射损耗小，实际传输长度接近模式传输长度，达10 μm以上;而高阶模表面等离子体由于部分裸露在空气中受表面缺陷散射的影响，散射损耗大，实际传输长度远小于模式传输长度.研究表明: 以能量高度束缚的基模表面等离子体作为载体，不仅可以实现低损耗传输，还可以减小集成器件之间的信号串扰，有效提高信息传输的安全性，在集成光学中具有重要应用.

光学薄膜的光学特性是薄膜设计与制备的基础。硅材料是红外光学薄膜中一种重要的高折射率材料。研究了在不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的折射率和消光系数的变化。结果表明，在200 ℃时，硅薄膜折射率最大，消光系数随温度升高而减小。

提出了一种新的基于统计与模糊隶属度的光学字符特征提取方法，可以快速准确地识别受噪声污染的光学字符。相比传统算法，本文方法的特征空间区分度更高，最小类间距离扩大33.2%以上。应用在径向基函数(RadicalBasis Function，RBF)神经网络中，在字体字号变化且有背景噪声污染的影响下，识别率高达99%以上，且相比直方图投影法提速75%。理论分析与实验结果表明，与传统方法相比，该算法抗噪能力更强、模式区分度更高、时空复杂度更低，更简约、更全面地覆盖了字符的特征，应用范围广。已应用于实际系统，取得很好的实验结果。

作者研制成一种二氧化锡掺氧化锌的光学薄膜,该膜具有气敏特性。测量了它在甲醇蒸气、乙醇蒸气、氨气中光透射率与气体浓度的关系,并解释了它的机理。