为了研究磁流变抛光液中磨粒团聚对光学玻璃元件的磨损性能，利用环境可控的直线往复式摩擦磨损试验机，以不锈钢球为对磨副，以熔石英为基底，系统地研究了磁流变抛光液中纳米金刚石磨粒团聚程度对熔石英摩擦磨损性能的影响，并利用光学显微镜、白光干涉仪等设备分析熔石英的磨损机制，最后将摩擦学实验结果与实际磁流变抛光结果进行对比。实验结果表明：纳米金刚石磨粒团聚程度越大，熔石英表面的材料去除率越大，磨损区域亚表面损伤情况越严重。当载荷为0.5 N时，熔石英在团聚磨粒作用下的磨损主要以黏着磨损为主，伴随着轻微的磨粒磨损，同时熔石英的亚表面无明显损伤；当载荷从0.5 N增加到4 N时，熔石英的磨损形式以磨粒磨损为主，熔石英的表面和亚表面出现大量损伤。采用相同磨粒团聚程度的抛光液进行熔石英磨损与磁流变抛光实验发现，熔石英在磁流变抛光过程中的材料去除率与磨损实验的材料去除率变化趋势保持一致，表明借助摩擦磨损实验在一定程度上可以预测实际磁流变抛光中的材料去除率。

为了满足工业领域的不同要求，研究了碳化硅(SiC)陶瓷超光滑表面且无表面损伤的抛光工艺，提出了一种紫外光催化振动复合抛光新方法。基于紫外光催化反应理论，论述了光催化振动复合抛光的加工机理，进行了不同的实验。首先进行了甲基橙降解实验，研究了光催化振动复合抛光氧化性对振动的依赖关系；接着进行了紫外光催化振动复合抛光对比实验，研究了振动前后SiC的抛光效果，验证了新抛光方法的有效性。实验结果表明，光催化反应生成的强氧化性羟基自由基能够将高硬度的SiC氧化成质地较软的二氧化硅，振动的引入减少了光催化反应中光催化剂的团聚，提高了抛光过程中氧化和去除的均匀性，从而提高了抛光过程中SiC的表面质量，最终获得了粗糙度为31~39 nm的光滑表面。