1 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室, 天津 300308
2 哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国家重点实验室, 黑龙江 哈尔滨 150080
3 中国航天科工集团公司深圳航天工业技术研究院, 广东 深圳 518048
利用离子束溅射沉积制备了光学薄膜。基于椭圆偏振测量技术,研究了折射率、膜层厚度和表面层厚度与测试光斑大小的关系。研究结果表明,随着样品表面测试光斑尺寸的增加,薄膜折射率变小,膜层厚度、表面层厚度增加。使用反射光谱法和轮廓仪分别验证了各光学常数的光斑效应。研究结果表明,光学薄膜的折射率与膜层厚度具有弱横向非均匀性,采用大尺寸测量光斑能弱化这种非均匀性。
薄膜 光学常数 椭圆偏振法 光斑效应 光学学报
2017, 37(10): 1031001
1 中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室， 上海 201800
2 中国科学院研究生院， 北京 100049
采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜，利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析，并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明，激光预处理可以使SiO2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右，并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷。
薄膜 激光预处理 SiO2单层膜 光斑效应 缺陷
Author Affiliations
Abstract
1 Key Laboratory of High Power Laser Materials, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China
2 Graduate University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China
The influence of laser conditioning on defects of HfO2 monolayer films prepared by electron beam evaporation (EBE) is investigated utilizing the spot-size effect of the laser-induced damage. It is found that the laser-induced damage threshold of HfO2 monolayer films can be increased by a factor of 1.3-1.6. It is also found that the defects with low threshold can be removed by laser conditioning and defects with higher threshold may be removed partially.
激光预处理 缺陷 单层膜 光斑效应 激光诱导损伤阈值 140.3330 Laser damage 310.6870 Thin films, other properties Chinese Optics Letters
2010, 8(6): 615
实验发现,光学材料的激光损伤阈值对激光光斑大小有强烈的依赖关系.研究了连续激光和匀质材料相互作用的机制,针对小光斑情形的材料响应和大光斑情形的结构响应分别提出各自不同的物理模型来解释光斑效应.研究表明,材料响应中的光斑效应基于热传导引起的光斑区热弥散,而在结构响应中,边界条件不同,破坏阈值与光斑大小的依赖关系也不尽相同.
光学材料 激光损伤阈值 材料响应 结构响应 光斑效应
