激光与光电子学进展, 2022, 59 (9): 0922019, 网络出版: 2022-05-10
面向光刻机晶圆台的超精密光栅定位技术 
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Ultraprecision Grating Positioning Technology for Wafer Stage of Lithography Machine
基本信息
| DOI: | 10.3788/LOP202259.0922019 |
| 中图分类号: | O439 |
| 栏目: | “光刻技术”专题 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金（61905129）、广东省基础与应用基础研究基金（2021B1515120007）、清华大学深圳国际研究生院启动基金（QD2020001N） |
| 收稿日期: | 2022-03-28 |
| 修改稿日期: | 2022-04-12 |
| 网络出版日期: | 2022-05-10 |
| 通讯作者: | 李星辉 (li.xinghui@sz.tsinghua.edu.cn) |
| 备注: | -- |
朱俊豪, 汪盛通, 李星辉. 面向光刻机晶圆台的超精密光栅定位技术[J]. 激光与光电子学进展, 2022, 59(9): 0922019. Junhao Zhu, Shengtong Wang, Xinghui Li. Ultraprecision Grating Positioning Technology for Wafer Stage of Lithography Machine[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2022, 59(9): 0922019.
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