非球面光学元件具有更大的自由度和灵活性，广泛应用在航空航天、微电子装备、光学精密测量、激光光学等诸多领域。光学元件表面缺陷将影响光学系统性能，而表面缺陷控制需要相应检测手段，高分辨率、高精度、高效率光学表面缺陷检测仍存在技术挑战。文中综述了光学元件表面缺陷类别、评价标准及检测方法，重点探讨了非球面光学元件表面缺陷检测技术及其应用范围，分析比较了各种方法的优缺点，最后对表面缺陷检测技术发展趋势进行了展望。

擦除、 密写、 掩盖等隐性字迹的快速、 无损显现与检验是法庭科学文件检验领域的研究难点。 当前多采用切换多波段光源与滤光片的方法对隐性字迹进行显现, 但对隐性字迹显现的光谱学机理分析较少, 因此隐性字迹的显现效率与检验成功率均不高。 为提高擦除、 密写、 掩盖三类隐性字迹的显现效率与检验精度, 通过测量字迹的激发与荧光光谱、 反射与透过光谱、 微观形貌, 对其显现机理与快速显现方法进行深入研究。 并且基于液晶可调谐滤光器(LCTF)的高光谱成像技术与支持向量机(SVM)分类算法, 提出一种对隐性字迹同时显现与分类的快速检验方法。 晨光与百乐可擦笔字、 荧光密写笔、 柠檬汁均可在365 nm长波紫外光激发下发出较强荧光, 其中可擦笔和柠檬汁的荧光波长为716 nm左右, 荧光密写笔荧光波长为447 nm。 此外, 采用254或365 nm波长对柠檬汁隐性字迹进行紫外反射成像也可有效显现柠檬汁字迹。 掩盖字迹的研究中发现, 在700~2 500 nm红外波段, 走珠笔、 记号笔、 可擦笔字迹透过率在60%以上, 而中性笔字迹透过率在20%以下。 因此, 采用近红外波段850 nm成像有效显现了百乐走珠笔所覆盖的晨光中性笔字迹。 同时, 采用LCTF高光谱相机对三类隐性字迹在400~720 nm范围进行步长为5 nm的高光谱成像, 并通过SVM分类算法对图像中不同笔迹成分进行同时显现和分类, 分类总精度达99.284 4%, Kappa系数达0.959 1。 以365 nm波长光源作为激发光进行光致发光成像可有效显现擦除与密写字迹。 由于不同墨迹在近红外波段反射率差异较大, 近红外成像可以有效显现掩盖字迹。 基于LCTF高光谱成像的SVM分类技术可实现不同类别隐性字迹的同时显现与分类, 并且有较高的显现效率与分类精度。