针对纳米压印过程中压印胶填充率低导致图案转移质量不佳，压印力过大损坏模板表面形貌等问题，提出一种基于压电驱动低频、低幅的振动辅助纳米压印方法制备光栅结构。在压印时施加横向一维振动，减小纳米压印过程中所需的压印力，提高压印胶对模板空腔的填充率。为研究双面光栅薄膜的周期变化对透射率的影响规律，运用时域有限差分法在波长500~1 500 nm范围内对不同周期参数的双面光栅结构进行仿真分析，得到周期参数变化对透射率的影响规律。在研制的振动装置上进行振动辅助纳米压印实验，并对制备出的双面光栅结构进行表面形貌表征以及透射率检测。实验结果表明，与无振动纳米压印技术相比，压印胶填充率显著提高，并改善了图案转移质量，减少大面积表面缺陷。在波长500~1 500 nm范围内，涂覆振动辅助纳米压印制备的双面光栅薄膜的SiO₂比传统纳米压印制备的双面光栅薄膜的SiO₂平均透射率提高4%，较无薄膜的SiO₂平均透射率提高6%。