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InAs基范德华异质结界面电荷转移特性第一性原理计算的研究进展
成田恬
1
张坤
2
罗曼
1,2,*
孟雨欣
1
[ ... ]
余晨辉
1,***
作者单位
摘要
1
南通大学 信息科学技术学院 江苏省专用集成电路设计重点实验室,江苏 南通 226019
2
中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室,上海 200083
由低维InAs材料和其他二维层状材料堆叠而成的垂直范德华异质结构在纳米电子、光电子和量子信息等新兴领域中应用广泛。探索跨结界面的电荷转移机制对于全面理解该类器件的非凡特性至关重要。第一性原理计算在揭示界面电荷转移特性与各种能量稳定型InAs基范德华异质结的电、光、磁等原理物理特性和器件性能变化之间的内在关系方面发挥着不可比拟的作用。文中梳理、总结和探讨了近年来InAs基范德华异质结间界面电荷转移特性的理论研究工作与潜在的功能应用,提出在理论方法和计算精度方面大力发展第一性原理计算的几个途径,为更好地开展InAs基范德华异质结的基础科学研究和应用器件设计提供可借鉴的量化研究基础。
InAs异质结
范德华堆叠结构
界面电荷转移
第一性原理计算
InAs heterojunction
van der Waals stacking configuration
interfacial charge transfer
first-principles calculations
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红外与毫米波学报
2023, 42(5): 666
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