针对p型GaN IMPATT制造工艺仍未成熟，提出了一种In04Ga06N/GaN n-n型异质结构来取代常规p-n结构，使GaN IMPATT二极管工作在IMPATT模式下。研究了这种n-n型In04Ga06N/GaN碰撞电离雪崩渡越时间(IMPATT)二极管的噪声特性，与同等条件下的传统GaN基p-n结IMPATT二极管作比较。结果表明，在不同偏置电流密度和不同InGaN层厚度下，该器件的噪声特性均好于传统p-n结构。结合器件交流输出特性可以得知，In04Ga06N/GaN同型异质结IMPATT器件不仅在功率效率上优于GaN p-n结构，其噪声性能表现亦优于传统GaN p-n结构，特别是在高频段的噪声特性优势更加明显。该研究可以为GaN基IMPATT器件的设计提供更多的思路和参考。