唐乐 1,2,4夏良平 1,4,*张满 1张为国 3[ ... ]杜春雷 1,4
作者单位
摘要
1 长江师范学院微纳光电器件与智能感知系统重点实验室,重庆 408100
2 长春理工大学光电工程学院,吉林 长春 130022
3 中国科学院重庆绿色智能技术研究院微纳制造与系统集成研究中心,重庆 400714
4 珠海迈时光电科技有限公司,广东 珠海 519060
针对传统微透镜面形测试光路复杂和效率不高的问题,提出了一种基于微透镜远场光斑高效提取环带状面形误差峰谷(PV)值的方法。基于几何光学原理,计算了不同环带误差形成的光斑的分界线位置;建立了环带误差的三维模型,通过仿真不同误差模型下的远场光斑,获得了分界线内外光强比值和环带误差值的对应关系;最后利用微纳加工技术制备出不同环带误差的微透镜阵列,搭建测试光路,通过测试获得了不同环带误差下的光斑能量分布,通过模型计算获得的微透镜环带状面形误差PV值与干涉仪测试结果一致。
光学器件 微透镜 远场光斑 环带状面形误差 光斑能量比 
光学学报
2024, 44(7): 0723002
龚健文 1,2,3王建 1,3刘俊伯 1,3孙海峰 1,3胡松 1,3,*
作者单位
摘要
1 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川 成都 610209
2 电子科技大学光电科学与工程学院,四川 成都 611731
3 中国科学院大学,北京 100049
微透镜阵列 投影光刻技术 掩模移动滤波技术 microlens array projection lithography mask moving filtering technology 
光电工程
2024, 50(12): 230281
郑奉禄 1,2余俊杰 1,3,*朱镕威 1,3马国庆 1,3张军勇 3,4,**
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所光芯片集成研发中心,上海 201800
2 上海科技大学,上海 201210
3 中国科学院大学,北京 100049
4 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室,上海 201899
提出了一种用高阶抑制二维达曼光栅作为分光元件替代普通衍射光栅实现微透镜阵列焦距快速测量的方法。高阶抑制二维达曼光栅具有优良的分光效果,且高阶衍射级次能够得到有效抑制,通过信噪比的提高降低焦距测量误差。设计并制备了一分五的高阶抑制二维达曼光栅,分束后的光束经过微透镜,在其焦面附近形成高对比聚焦光斑阵列。相比常规一维光栅,所提方法通过测量每个微透镜焦面内光斑两两之间的距离,得到多个焦距值,从而有效减少测量的随机误差。实验结果表明,该方案对微透镜阵列焦距的单次测量误差小于3.5%,重复测量误差在4.5%之内。该方案对微透镜阵列的焦距分布快速评估具有实用价值。
测量 高阶抑制达曼光栅 微透镜阵列 焦距测量 
中国激光
2024, 51(6): 0604004
作者单位
摘要
吉林大学电子科学与工程学院,吉林 长春 130012
具有刺激响应形变功能的微结构能够通过外界刺激信号获取能量,进而发生机械形变,在自动化技术、微小机器人技术、微流控芯片等领域具有巨大的前沿应用潜力。然而,现有的智能微结构的研制很大程度上依赖于智能材料及其成型技术,不仅受限于为数不多的材料体系,而且局限在单一的刺激响应形变。基于此,提出利用飞秒激光双光子增材制造技术在形状记忆薄膜上加工蛋白质微结构阵列的新方法,实现了微结构阵列尺寸和周期的双重响应形变。微结构阵列在热处理下被机械拉伸定性,实现了结构周期的调控,该过程可在热刺激下恢复;同时,牛血清白蛋白微结构可以在不同pH值的条件下表现为可逆的溶胀和收缩形变。智能材料与形状记忆基底相结合可以赋予微结构阵列更加复杂可控的双重响应形变。本文制备了微结构阵列和微透镜阵列,展示了双重响应下的结构变化和功能调谐,为智能化微结构阵列在微流控系统中的应用作出了有益的探索。
飞秒激光直写 微透镜 蛋白质 微纳加工 
激光与光电子学进展
2024, 61(1): 0114010
作者单位
摘要
1 厦门大学 萨本栋微米纳米科学技术研究院,福建厦门36005
2 福建省能源材料科学与技术创新实验室(IKKEM),福建厦门361005
3 厦门大学 航空航天学院,福建厦门61102
4 厦门大学 物理科学与技术学院,福建厦门361005
5 厦门大学 九江研究院,江西九江332000
在MLA曝光工艺中,曝光点的数量庞大,通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力,造成工艺成本偏高。为了解决这个问题,设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型,一定程度上能够取代人工目检,完成对曝光质量的快速判定。基于上述方法,分析了不同光刻胶厚度之下,线能量密度的最优区间与光刻胶的剖面倾角。并在同等线能量密度下通过圆度判定曝光图案失真情况。在本研究的MLA曝光工艺中,选取光刻胶厚度、激光曝光功率以及加工平台移动速度作为自变量,评价曝光合格率、光刻胶剖面倾角以及曝光圆度等加工质量参数具有重要的工程意义。
无掩膜光刻 微透镜阵列 曝光合格率 目标检测 maskless lithogrophy microlens array qualification rate object detection 
光学 精密工程
2024, 32(1): 43
作者单位
摘要
华北光电技术研究所,北京100015
台面型锑化铟红外焦平面探测器的制作工艺简单,量子效率高,但是填充因子较低且会随着像元尺寸的减小而进一步降低。减小台面腐蚀深度可以提高探测器的填充因子,但会增大串音。介绍了一种新型微透镜阵列的设计与制备方法,以提高锑化铟红外探测器的填充因子并减小串音。与现有的热回流微透镜阵列相比,该微透镜阵列的填充率、表面粗糙度以及尺寸均匀性能得到了较好的兼顾,可直接在锑化铟红外探测器表面制作,工艺简单。结果显示,探测器的串音降低26%,光响应提高22%。
红外焦平面探测器 锑化铟 微透镜阵列 infrared focal plane detector InSb microlens array 
红外
2023, 44(9): 0023
高龙 1,*李显杰 1安超 1欧宗耀 1[ ... ]吴谨 2
作者单位
摘要
1 中国空间技术研究院 北京空间机电研究所,北京 100094
2 中国科学院空天信息创新研究院,北京 100094
为解决合成孔径成像激光雷达受制于相干天线定理的问题,扩大成像视场,提高相干收发光学系统效率,提出并研制了基于4×4尾纤式微透镜阵列接收的相干收发光学系统,建立了全视场光学系统耦合效率计算模型,完成了高精度的收发光学系统集成装调及系统光学效率测试。结果表明:发射链路与16路接收链路的光轴最优偏差优于4″,中心视场光学系统效率优于73.1%,全视场光学系统效率优于65.5%,可满足激光雷达成像试验要求。
合成孔径成像激光雷达 收发光学系统 微透镜阵列 全视场 光轴偏差 耦合效率 Synthetic aperture lidar Tran-receiver optical system Micro-lens array Whole field of view Axis mislialment Coupling efficiency 
光子学报
2023, 52(11): 1111002
作者单位
摘要
1 华中科技大学 光学与电子信息学院, 武汉 430000
2 华中科技大学 武汉光电国家研究中心, 武汉 430000
光片荧光显微镜具有光毒性低和3D成像容易等特点, 逐渐成为生物医学领域的关键设备。运用ZEMAX设计了一款光片荧光大数值孔径显微镜物镜, 该物镜具有针对常用荧光波长(460nm/509nm/590nm/620nm)成像优化﹑引入光阑结构来使物镜景深可调等特点, 从而能提高对光片厚度的适应性, 减少杂散光干扰, 增加系统信噪比。系统末端设计了微透镜阵列, 参考CMOS传感器像素尺寸调节, 提高了系统能量利用率。物镜总长小于45mm, 数值孔径为0.7, 放大倍率为40x, 工作距离为0.4mm, 性能指标均满足国家标准。
应用光学 显微镜物镜 光片 光阑结构 微透镜阵列 applied optics microscope objectives light sheet diaphragm structure microlens-arrays 
光学技术
2023, 49(6): 646
作者单位
摘要
上海交通大学 电子信息与电气工程学院先进电子材料与器件平台,上海 200240
开发了一种和MEMS工艺兼容的基于硅微加工技术的简易硅微透镜阵列制造技术。利用光刻胶热熔法和等离子体刻蚀法相结合的方法,实现了在硅晶圆上制作不同尺寸的硅微透镜阵列的工艺过程。实验中,对透镜制作过程中的热熔工艺、刻蚀工艺进行了深入的研究。最终确定了最优的工艺参数,制备了孔径在20~90 μm、表面质量高的硅微透镜阵列。
微透镜阵列 光刻胶热熔法 电感耦合等离子体刻蚀 刻蚀缺陷 silicon microlens array photoresist hot melt method ICP-RIE etch defect 
半导体光电
2023, 44(3): 389
李雪强 1,2吴芳 1,2龚爽 1,2步扬 1,2,*
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海 201800
2 中国科学院大学材料与光电研究中心,北京 100049
建立了基于泰森多边形排布的随机微透镜阵列激光光场复相干度调制模型,分析了旋转随机微透镜阵列参数对激光发散角以及激光光场复相干度模的影响规律。仿真与实验结果表明:子透镜单元的平均口径与曲率半径共同影响随机微透镜阵列的发散角,通过控制随机微透镜阵列子透镜单元的参数可提供特定发散角;随机微透镜阵列转速影响激光光场复相干度的模,复相干度的模随转速增加而下降,转速从0增加至4800 r/min,复相干度的模下降总幅度为96.67%,且随转速增加下降趋势逐渐变缓。
激光光学 激光光场 随机微透镜阵列 复相干度 发散角 
中国激光
2023, 50(19): 1905002

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