光刻技术在前沿科学与国计民生等领域发挥着重要作用。随着曝光光源、数字微镜器件（DMD）、投影镜头等光学元件的升级及计算机控制技术的飞速发展，基于DMD的无掩模光刻技术有可能在不久的将来与目前成熟的有掩模光刻技术齐头并进，并在特定应用领域中不可或缺。详细介绍了基于DMD的面投影光刻的曝光原理、系统组成和发展进程，重点介绍了提高面投影光刻分辨率的方法，以及突破光学衍射极限制备超细微结构的相关工作。同时阐述了基于DMD的面投影无掩模曝光技术在制备光子学器件、生物学支架、仿生结构等器件中的独特优势，特别是引入超快激光后其在新型加工领域所展现出的应用潜力。
