有机发光二极管（Organic Light-Emitting Diode， OLED）显示技术通过有机材料的自主发光，展现出广色域、低能耗、柔性化等优点，是最具发展潜力的显示技术之一。目前OLED显示仍存在寿命短、亮度低和可靠性差等问题，这些问题最终导致残像现象的发生，本文旨在分析和总结OLED显示残像问题的研究进展和相关解决方案。首先，阐释了OLED显示残像问题与OLED材料寿命和薄膜晶体管（Thin Film Transistor， TFT）稳定性的关联，关注柔性与刚性OLED器件的结构差异，进一步总结、归纳了OLED残像的产生机制。其次，针对不同的残像诱发原因，讨论了缓解和补偿OLED显示残像的方法，包括提升OLED有机材料寿命和TFT阈值电压稳定性、外部补偿电路等方案。最后，对OLED显示残像问题的进一步解决办法进行了展望。

为了提高钙钛矿纳米晶CsPbX₃（X=Cl，Br，I）在水或热等环境中的稳定性，本文采用热注射法合成了3‐氨丙基‐三乙氧基硅烷（APTES）修饰的CsPbBr₃纳米晶，在此基础上，以正硅酸四甲基酯（TMOS）为硅源制备了CsPbBr₃@SiO₂核壳结构纳米颗粒。通过X射线衍射、透射电子显微镜和荧光光谱仪等测试手段对样品的结构、形貌、光谱特性及稳定性等进行了分析。结果表明，CsPbBr₃纳米晶表面形成了SiO₂壳层，同时，CsPbBr₃@SiO₂纳米颗粒仍保持优异的光学性能。更重要的是，SiO₂壳层显著提高了CsPbBr₃的水、热稳定性，CsPbBr₃@SiO₂在60 ℃加热30 min后发光强度可以保持初始强度的81%，浸水100 min后发光强度仍保持初始强度的75.2%。此外，我们设计了CsPbBr₃@SiO₂‐聚二甲基硅氧烷（PDMS）复合薄膜，实现了CsPbBr₃@SiO₂在柔性显示与荧光防伪方面的应用，有望为柔性显示和荧光防伪材料的开发提供参考。

有机电致发光器件（Organic light emitting diode，OLED）具有轻薄、便于携带、自发光、能耗低、亮度更大、柔性显示等特点，可以增加显示产品的附加值，因此被科学和产业界广泛关注。然而，OLED器件中的有机材料对空气中的水汽和氧气十分敏感，若器件在无封装保护的情况下长期在空气中存放，将会严重影响OLED的工作性能和寿命。除了选择合适的传输层材料、表面层结构和利用界面工程提高材料水氧耐受能力之外，对器件进行可靠的封装是隔绝空气中水汽和氧气侵蚀的一种有效手段。原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种已经在实验室验证的有效薄膜沉积封装技术，由于ALD的自限制反应特性，可以在低温下沉积出厚度精确可控且均匀致密的薄膜，利用ALD沉积的薄膜往往拥有良好的机械柔性、超高的阻隔性能和光学透过率。本文将回顾原子层沉积技术的原理，分析ALD制备薄膜的水汽透过率，比较ALD在单层、有机‐无机叠层薄膜封装制备上的技术优势。

基于柔性显示技术的主动像质重构自适应伪装方法是利用柔性显示器件结合频谱转移技术和主动像质重构技术实现目标表面光谱辐射特性的改变、转移和选择性分布。文中设计通过调制目标表面的光学特性参数改变目标的光学特征，可以实现目标在活动过程中实时拍摄背景图像，将其显示于柔性显示器上。利用主动像质重构、柔性显示和发射率控制层达到调制目标的红外辐射强度和有效分割目标热图的目的，从而实现全天候、全过程与周围的自然环境高度融合，并且，目标表面的光谱分布特征不随探测方向的变化而改变，达到目标伪装的效果，相较于改变目标表面的物理结构特征的方法，这样的技术使得目标的环境适应性更好，且易于实现。