针对不同背景条件下，红外弱小目标检测信杂比低、虚警率高的特点，重点利用小目标能量接近高斯分布特性，提出一种利用改进的图像局部熵加权多尺度的基于图像块对比度的红外小目标检测方法。首先，计算红外图像中心块和邻域块的均值；然后，计算出中心块和邻域块的均值差异达到凸显小目标、抑制背景噪声的效果，同时计算各个像素点的改进局部图像熵以凸显小目标、抑制形状与小目标大小近似的伪目标以及大面积的干扰物体的角点；之后，利用改进的图像熵加权中心块和邻域块的均值差异值，得到高信杂比、低虚警率的显著度图像；最后，利用自适应阈值分割算法获取目标的位置。实验结果表明，与同类基于human visual system（HVS）检测方法相比，所提方法适用场景更广，特别是在复杂背景下，能达到更低的虚警率、更高的信杂比。

针对局部对比度方法对红外目标进行检测时难以提升目标的显著性及抑制背景困难的问题，提出一种基于特殊预处理的增强局部对比度方法来检测目标。通过快速中值滤波去除高频噪声，通过改进的形态学梯度来抑制背景，通过增强的局部对比度来提高目标的显著性，最后通过自适应阈值来获取需要检测的真实目标。结果表明，同经典人类视觉系统的检测方法相比，所提方法在检测红外弱小目标时具有优越性，在高亮度背景情况下效果更为显著。

布里渊光频域分析（Brillouin Optical Frequency Domain Analysis, BOFDA）技术是分布式光纤传感技术的一种。回顾了BOFDA的发展历史，介绍了 BOFDA的最新应用进展情况，并提出了基于BOFDA测量桥梁挠度的新方法。通过光纤布设研究提出在桥梁底面采用全面粘贴的方式布设光纤，并分析了光纤应变表征桥梁挠度的理论，最后进行了基于BOFDA的室内桥梁模型测量试验研究。试验结果表明，百分表实测桥梁模型的挠度与桥梁模型上分级集中荷载及模型下表面的光纤应变变化均成正比例关系；BOFDA光纤应变可以标定桥梁模型变形范围，且光纤应变表征的桥梁模型挠度和百分表实测挠度值基本一致。因此，采用BOFDA技术进行桥梁挠度测量是可行的。

在布里渊光时域反射计(Brillouin Optical Time Domain Reflectometer,BOTDR)光纤传感系统中,自发布里渊后向散射信号非常微弱,尤其是光纤远端的布里渊散射信号,信噪比非常差,分析难度非常高。提出了一种基于互相关理论的布里渊谱信号质量提升方法,通过与理想布里渊散射谱进行互相关运算,降低了对光纤远端极微弱布里渊散射信号应变分析的难度。经试验验证,该方法可以有效提升信噪比较差时应变分布数据的信号质量以及BOTDR的应变传感精度。

良好的接地设计是卫星系统性能稳定、安全可靠的重要保障。简要介绍了几种卫星上常用的接地方式,分析了国内外卫星接地现状及其原因。针对高轨卫星在轨运行环境中存在的严重的充放电效应和内带电效应,详细分析并设计了一种高轨卫星接地方案。经北斗二代导航卫星地面试验及在轨飞行验证,星上各单机工作稳定正常,该接地设计可靠有效。

为了发展具有实用价值的受激喇曼全光偏振控制方法, 根据光纤中受激喇曼散射矢量理论和光纤随机双折射效应设计了基于双向二级喇曼抽运的全光偏振控制方案, 构建了偏振吸引理论模型, 采用严格数值迭代算法对该偏振控制方案进行了仿真分析, 并完成了偏振控制方案最佳工作性能的优化设计。结果表明, 当信号光波长为1550nm、功率为0.1mW、一级抽运光和二级抽运光的功率分别为1W和4W、其偏振态都为（0, 1, 0）、光纤长度为3km时, 信号光偏振度可达0.85以上, 且信号光强度波动低于35%。该方案有效降低了作用光波功率、减弱了信号光输出强度噪声, 并提高了信号光输出偏振度。

阶梯式掺杂和多环式掺杂设计的掺铒光纤(EDFs)结构复杂，采用改进化学气相沉积法(MCVD)制备困难。为此，将两段铒离子分别为中心掺杂和环形掺杂的掺铒光纤级联构成四线偏振模信号光放大器。该结构放大器使中心模式信号光(LP01 模和LP02 模)和离心模式信号光(LP11 模和LP21 模)分别在中心掺杂铒光纤和环形掺杂铒光纤中获得主要增益。基于一种改进遗传算法(GA)，对该放大器两段掺铒光纤的长度和铒离子掺杂半径进行优化。结果显示，仅用270 mW LP11模抽运光对该级联结构放大器进行抽运，四线偏振模信号光可获得20 dB 的平均增益，且模式相关增益(DMG)不超过3.5 dB。

为简化大尺寸液晶面板四次光刻法的刻蚀工艺、减少有毒气体使用、降低射频功率消耗，在2 200 mm×2 500 mm大尺寸玻璃上，采用正交实验设计，验证了功率、气压、反应气体和比例等参数对各刻蚀步骤刻蚀速率、均一性和选择比的影响关系，从而得到各膜层的最佳工艺条件。在Enhance Cathode Couple Plasma Mode(ECCP)刻蚀模式下，采用新刻蚀条件合并薄膜晶体管有源区非晶硅、光刻胶、湿刻后源极和漏极剩余金属钼以及沟道非晶硅层干法刻蚀。利用扫描电子显微镜(SEM)对薄膜电学特性进行测试，结果显示，金属钼的刻蚀可以采用一次两步干法刻蚀，“2干2湿”刻蚀可以整合为“1干1湿”。整合后总刻蚀工艺时间减少16 s，减少了氯气使用量和RF总功率。试验改进了均一性和刻蚀率，同时对于下底衬具有良好的选择比，保持了良好的形貌，为大批量“1干1湿”生产提供了依据。

在分布式光纤传感系统中, 由于生产厂家、材料、掺杂及生产工艺等的不同, 传感光纤的折射率、应变系数及温度系数等基本参量各有差异, 在投入使用前必须对其进行标定。提出了基于拉伸装置标定光纤应变系数的方法并系统地进行了误差分析。采用 G.652单模光纤, 针对不同初始长度进行了多次标定实验, 标定的应变系数在 0.050 2～0.051 2 (MHz/με)之间, 重复性好。通过 BOTDR验证, 实测应变值与理论计算结果吻合的得较好。实验结果表明: 该标定方法切实可行、易于实现, 既可用于对光纤传感系统的标定, 也能用于 BOTDR在生产过程中的应变校准。

为解决116.8 cm(46 in)广视角边缘场切换技术4mask面板生产中的阵列工艺中, 发生的一种网点色斑缺陷, 应用扫描电子显微镜、聚焦离子束、能谱仪、宏观微观观测仪和线宽测量仪等检测设备进行Mura及其结晶物成份分析, 比较了TFT膜厚; 进行了GI和PVX膜玻璃正反面1%HF酸腐蚀试验、下部电极温度升高10 ℃试验、工艺ash、n+ 刻蚀的后处理步骤和有源层BT试验。研究了沟道n+掺杂a-Si层的厚度对于Mura的影响。确定了Mura的发生源和影响因素, 结果发现Mura形成机理, 一为基板背部划伤, 二为接触和不接触电极区域的温差异, 三是刻蚀反应的生成物在有源层工艺黏附在基板背部, 之后经过多层膜沉积、湿刻和干刻、剥离工艺后促使缺陷进一步放大。最后采用平板粗糙面下部电极、控制剩余a-Si厚度和升高温度的方法, 消除了网点Mura, 并使得整体Mura发生率降为0.08%。