作者单位
摘要
北京京东方显示技术有限公司, 北京 100176
针对栅极绝缘层和栅极引线接触处形成过孔倒角造成的一种垂直线不良进行分析和改善。研究气相沉积、干法刻蚀和磁控溅射对过孔倒角的影响, 通过扫描电子显微镜对过孔形貌进行表征, 并用成盒检测设备检测不良发生情况。实验结果表明: 通过过孔刻蚀功率、气压、气体流量的变更可以消除倒角现象, 垂直线不良由1.4%降为0.7%。
垂直线不良 倒角 过孔 vertical line mura undercut via hole 
液晶与显示
2017, 32(5): 352
作者单位
摘要
1 北京林业大学水体污染源控制技术北京市重点实验室, 北京 100083
2 中国人民大学环境学院, 北京 100872
3 北京林业大学公共分析测试中心, 北京 100083
利用NaOH, Ca(OH)2, H2SO4和HCl四种溶液对楸木木屑进行化学预处理, 发现两种碱预处理均能显著提高楸木木屑的酶解效率。 采用扫描电镜(SEM), X射线衍射(XRD)和傅里叶红外光谱(FTIR)对四种化学预处理后的楸木木屑进行观察和分析。 SEM观察发现, 四种化学预处理对楸木木屑的纤维表面均有不同程度的破坏与侵蚀, 其中Ca(OH)2的破坏效果最为明显。 XRD谱图表明, 碱预处理对楸木木屑纤维素的非晶体结构产生破坏, 导致其结晶度升高, 而经过酸预处理后楸木木屑纤维素的结晶度没有明显变化。 FTIR谱图显示, 酸碱预处理对楸木木屑中半纤维素和木质素的分子结构均有不同程度的破坏, 碱预处理过程中木质素的高效溶出可能是楸木木屑酶解效率显著提高的主要原因。
化学预处理 楸木木屑 扫描电镜 X射线衍射 傅里叶红外光谱 Chemical pretreatment Catalpa sawdust SEM XRD FTIR 
光谱学与光谱分析
2016, 36(6): 1966
张光明 1,2,*邹鹏 2洪津 2
作者单位
摘要
1 安徽大学物理与材料科学学院, 安徽 合肥 230601
2 中国科学院安徽光学精密机械研究所中国科学院通用光学定标与表征技术重点实验室, 安徽 合肥 230031
提出了一种基于DSP的星载定标器地检设备的设计与实现。以DSP为主控单元,辅以USB通讯模块、RS-422串行通讯模块、三线制串行通讯模块、模拟量 采集模块、OC驱动模块等实现了地检设备的研制,利用该地检设备完成了星上定标器电子学接口的测试,对地检设备的功能及性能进行了验证。
地检设备 星上定标器 ground test equipment calibrator on-board DSP DSP 
大气与环境光学学报
2016, 11(1): 68
作者单位
摘要
北京京东方显示技术有限公司,北京 100176
研究各膜层对灰化速率的影响,增强对灰化工艺的了解,为四次光刻工艺改善提供参考。采用探针台阶仪测量在相同灰化条件下不同膜层样品的灰化速率和有源层损失量,对结果进行机理分析和讨论。实验结果表明: 有源层会降低灰化速率,源/漏金属层可以增大灰化速率,栅极金属层对灰化速率无影响。对于正常膜层结构的阵列基板,源/漏层图形密度越大,灰化速率越小,图形密度每增大1%,灰化速率下降14 nm/min。有源层和源/漏金属层对灰化等离子体产生影响,从而影响灰化速率。
薄膜晶体管阵列工艺 四次光刻 光刻胶 灰化 thin film transistor array process four mask photoresist ashing 
液晶与显示
2015, 30(4): 616
作者单位
摘要
1 北京林业大学 工学院, 北京100083
2 北京京东方显示技术有限公司, 北京100176
为解决116.8 cm(46 in)广视角边缘场切换技术4mask面板生产中的阵列工艺中, 发生的一种网点色斑缺陷, 应用扫描电子显微镜、聚焦离子束、能谱仪、宏观微观观测仪和线宽测量仪等检测设备进行Mura及其结晶物成份分析, 比较了TFT膜厚; 进行了GI和PVX膜玻璃正反面1%HF酸腐蚀试验、下部电极温度升高10 ℃试验、工艺ash、n+ 刻蚀的后处理步骤和有源层BT试验。研究了沟道n+掺杂a-Si层的厚度对于Mura的影响。确定了Mura的发生源和影响因素, 结果发现Mura形成机理, 一为基板背部划伤, 二为接触和不接触电极区域的温差异, 三是刻蚀反应的生成物在有源层工艺黏附在基板背部, 之后经过多层膜沉积、湿刻和干刻、剥离工艺后促使缺陷进一步放大。最后采用平板粗糙面下部电极、控制剩余a-Si厚度和升高温度的方法, 消除了网点Mura, 并使得整体Mura发生率降为0.08%。
色斑 薄膜晶体管 非晶硅 缺陷分析 Mura thin film transistor amorphous silicon defect analysis 
液晶与显示
2013, 28(6): 860
作者单位
摘要
北京京东方显示技术有限公司, 北京 100176
为了减少制造工艺的流程, 改进的 4-Mask工艺被广泛应用。但这个工艺仍存在一些问题, 如果有源层刻蚀和第二次源漏数据线刻蚀之间间隔时间较长(≥5.9 h), 则有源层刻蚀所用气体Cl2形成的活化分子会对沟道内Al造成腐蚀。除了缩短上述间隔时间的方法外, 本文应用有源层刻蚀后处理加入SF6/O2的方法, 很好地阻止了对Al的腐蚀, 对改进后4-Mask工艺的进一步应用具有非常重要的意义。
有源层 腐蚀 active layer corrosion 
液晶与显示
2013, 28(2): 224
作者单位
摘要
1 哈尔滨工业大学空间光学工程研究中心, 黑龙江 哈尔滨 150001
2 北京跟踪与通信技术研究所, 北京 100094
3 国防科技大学电子科学与工程学院, 湖南 长沙 410073
针对红外图像目标检测性能问题,从多传感器融合算法的典型流程出发,推导单帧检测性能、多帧检测性能和多传感器融合性能的关系,并从理论上对单个因素的影响进行定量分析.分析结果表明,多传感器融合的性能比单帧检测性能和多帧检测性能更优越.
红外图像 检测性能 多传感器融合 infrared image detection performance multi-sensor data fusion 
红外与毫米波学报
2009, 28(1): 16
作者单位
摘要
1 哈尔滨工业大学,空间光学工程研究中心,黑龙江,哈尔滨,150001
2 北京跟踪与通信技术研究所,北京,100094
3 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083
波段选择是导弹助推段天基红外探测系统设计首先需要解决的问题.无论是中心波长的确定,还是波段宽度的设定,都应有合理的依据.本文提出了导弹助推段天基探测的像面照度模型,并根据模型得到导弹助推段天基红外探测系统的目标与背景信杂比作为目标函数,利用信杂比的最大化作为波段宽度选择的依据,进行探测波段的选择.分析结果表明,以H2O,CO2吸收带2.7μm和4.3μm为作为红外探测系统的中心波长有其固有的合理性,不同的波段宽度选择将使信杂比产生显著变化.本文所建立的像面照度模型对遥感器设计和性能估计亦有重要意义.
吸收带 红外探测 像面照度 
红外与毫米波学报
2007, 26(6): 425
作者单位
摘要
1 哈尔滨工业大学,空间光学工程研究中心,哈尔滨,150001
2 北京跟踪与通信技术研究所,北京,100094
3 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083
在分析人眼视觉特性的基础上,提出图像量化位数的选择取决于图像的最终用途的观点.从天基预警类成像探测仪的基本原理出发,建立了信噪比与探测概率之间的关系,进而研究了量化级数确定问题.就图像显示和人眼观看而言,8 bit量化已能满足要求.当用于预警和目标探测目的,在满足信息处理需要前提下,虚警不超过10-4/Frame边界条件下的最小量化级数可进一步降低为5 bit,较理想的量化级数为6 bit.
量化 遥感 图像 
光子学报
2007, 36(11): 2172
作者单位
摘要
北京跟踪与通信技术研究所 北京 100094
分析线列CCD摄像机交汇测量的原理,以空间虚拟的光电靶代替实物靶来实现对弹丸目标脱靶量的实时获取。在分析了CCD摄像机测角精度与布站方式等影响交汇测量精度的因素后,对光电靶面上不同位置点的CCD摄像机交汇坐标测量精度进行了计算,给出测量精度与布站的关系,指出CCD摄像机正交布站时系统具有最高的测量精度。
线列CCD 脱靶量 交汇测量 linear CCD array object missing distance intersectant measurement 
应用光学
2000, 21(5): 40

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