丁国建 1王晓晖 1冯琦 1于萍 1[ ... ]汪洋 1,*
作者单位
摘要
1 松山湖材料实验室,广东 东莞 523808
2 中国科学院物理研究所 清洁能源重点实验室,北京 100190
铌酸锂薄膜光子集成技术在高速光电子领域不断凸显,被广泛用于各种片上功能实现,如电光调制、光频梳、滤波器、非线性光学频率转换器、非线性量子光源、激光器等。在铌酸锂薄膜光子集成技术发展过程中,目前面临的一个重要的技术瓶颈就是铌酸锂薄膜纳米波导与单模光纤的高效耦合。针对这一问题,设计了一种基于SiO2、SiON锥形结构以及双层铌酸锂锥形结构的模斑转换器,实现铌酸锂薄膜纳米波导与单模光纤之间模式和能量的高效传递与转换。采用三维有限差分光束传播法对器件结构进行了模拟仿真,并优化了结构参数,可实现与铌酸锂薄膜波导与单模光纤的高效耦合,耦合效率在82.2%~89.0%之间,同时,得到了±1.8 µm光纤耦合对准容差,可为下一步制备出高效耦合的铌酸锂薄膜光子器件提供参考。
集成光学 模斑转换器 三维有限差分光束传播法 铌酸锂薄膜 耦合效率 单模光纤 integrated optics mode size converter three-dimensional finite difference beam propagation method lithium niobate film coupling efficiency single mode fiber 
红外与激光工程
2023, 52(9): 20220897
岳琛 1,2杨浩军 1,2吴海燕 1,2李阳锋 1,2[ ... ]陈弘 1
作者单位
摘要
1 中国科学院物理研究所 清洁能源重点实验室,北京 100190
2 中国科学院大学,北京 100049
在最近的实验中,PN结型量子阱结构被观察到反常的载流子输运情况,其相应的物理机制和载流子输运模型被提出。通过系统实验观察到,PN结量子阱结构材料在共振激发模式下,仍可测出开路电压或短路电流。对比开路和短路情况下的光致荧光(PL)光谱,发现短路下PL强度明显降低。这说明短路状态下的光生载流子没有被限制在量子阱内,而是逃逸出结区。这种载流子逃出量子阱的现象却没有在等量偏压下的NN型量子阱结构中发现,说明载流子逃出量子阱并非由传统的热激发或隧穿的作用导致。据此,笔者提出了相应的物理机制和载流子输运模型对此现象进行解释,认为光生载流子能在PN结内建电场的作用下直接逃出量子阱,并且辐射复合发光发生在载流子逃逸过程之后。
探测器 量子阱 载流子输运 photodetector quantum well carrier transport 
红外与激光工程
2021, 50(1): 20211007
作者单位
摘要
中国科学院物理研究所, 北京凝聚态国家实验室, 北京新能源材料与器件重点实验室, 清洁能源重点实验室, 北京 100190
近期, 实验发现PN结中局域载流子具有极高提取效率, 并导致吸收系数的大幅度增加.文中报道基于上述现象的新型量子阱带间跃迁红外探测器原型器件的性能.利用含有InGaAs/GaAs多量子阱的PIN二极管, 在无表面减反射膜的实验条件下, 利用仅100 nm的有效吸收厚度, 实现了31%的外量子效率.基于该数值推算得到, 量子阱的光吸收系数达3.7×104 cm-1, 该数值高于传统透射实验测量结果一个数量级.上述实验结果指出, 利用量子阱带间跃迁工作机制, 有望实现新颖的器件结构设计和提高现有器件性能.
铟镓砷/砷化镓 带间跃迁 光子探测器 InGaAs/GaAs interband transition photon detector 
红外与毫米波学报
2017, 36(2): 129
孙庆灵 1,2,*王禄 1,2姚官生 3曹先存 3[ ... ]陈弘 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院物理研究所 清洁能源重点实验室,北京 100190
2 中国科学院物理研究所 北京凝聚态物理国家实验室,北京新能源材料与器件重点实验室,北京 100190
3 中国空空导弹研究院,河南 洛阳 471009
采用分子束外延方法在GaAs和GaSb衬底上生长了一系列InAsSb薄膜,研究了Sb组分与Sb4束流间关系.实验发现,在分子束外延生长中,相比As原子, Sb原子更易并入晶格中.利用该特性可较好实现InAsSb材料的组分控制.
分子束外延(MBE) 铟砷锑 组分控制 molecular beam epitaxy(MBE) InAsSb composition control 
红外与毫米波学报
2016, 35(4): 386
康健彬 1,*王磊 1郝智彪 1王超 1[ ... ]陈弘 2
作者单位
摘要
1 清华大学 电子工程系 清华信息科学与技术国家实验室,北京100084
2 中国科学院物理研究所, 北京100190
波长上转换红外探测器在实现大面阵、低暗电流红外探测方面具有很大的发展潜力.短波长光子的发光效率是影响上转换器件效率的重要因素.设计、制作了具有不同发光阱个数的波长上转换红外探测器件,结合器件的红外响应和仿真计算,分析了发光阱个数对波长上转换效率的影响规律.研究结果表明,选择单个发光阱,有利于提高器件的发光效率,从而提高波长上转换效率.
波长上转换 量子阱 发光效率 载流子分布 up-conversion quantum well emission efficiency carrier distribution 
红外与毫米波学报
2016, 35(3): 281
作者单位
摘要
1 清华大学 电子工程系 清华信息科学与技术国家实验室,北京 100084
2 中国科学院物理研究所,北京 100190
通过对波长上转换红外探测过程的分步测试和理论计算,对量子级联波长上转换器件与系统的红外响应特性进行了深入的研究。结果表明:量子级联波长上转换红外探测器件可以在较低的本底发光下实现较强的红外响应。上转换器件的响应度在平带偏压附近迅速增加,且红外光转换为上转换器件电流的线性度良好。对于波长上转换器件的近红外发光过程,文中应用ABC模型,获得了与测试结果非常一致的系统响应电流与电流转换效率,并合理地解释了波长上转换红外探测系统的非线性响应特征。
上转换 级联输运 响应特性 线性度 ABC模型 up-conversion cascade carrier transport response characteristics linearity ABC model 
红外与激光工程
2016, 45(1): 0102001
田海涛 1,2,*王禄 1温才 3石震武 1[ ... ]陈弘 1
作者单位
摘要
1 中国科学院物理研究所 北京凝聚态物理国家实验室, 北京100190
2 天津工业大学 电气工程与自动化学院, 天津300387
3 西南科技大学理学院 极端条件物质特性实验室, 四川 绵阳621010
系统研究了在调制掺杂AlGaAs/GaAs异质结中嵌入InAs量子点后对二维电子气输运特性的影响。使用分子束外延设备生长了量子点层与二维电子气沟道距离(Tch)不同的3个样品, 霍尔测试结果表明, 二维电子气的电子迁移率和载流子浓度都随Tch的减小而降低。基于几何相位分析算法对部分样品的高分辨透射电镜图像进行了处理, 得到了其应变分布图。结果表明, 应变主要分布在量子点的周围, 并延伸到了量子点的上方。该不均匀的应力场可能是除库伦散射外影响电子迁移率降低的另一个重要因素。
量子点 二维电子气 应力 分子束外延 quantum dots two-dimensional electron gas strain molecular beam epitaxy 
发光学报
2014, 35(6): 637
作者单位
摘要
1 中国科学院物理研究所 清洁能源前沿研究重点实验室, 北京100190
2 天津中环新光科技有限公司, 天津300385
研究了具有InGaN/GaN超晶格(SL)插入结构的绿光InGaN/GaN多量子阱(MQW)的发光特性。结构测试表明, SL插入结构并没有引起MQW中平均In组份的增加, 而是改变了In组份的分布, 形成了高In组份的量子点和低In组份量子阱。其电致发光(EL)谱和光致发光(PL)谱均出现了双发光峰。我们认为这两个峰分别来自于量子点和量子阱, 且存在着载流子从阱向点转移的输运机制。最后变温PL积分强度的Arrhenius拟合表明, SL插入结构并没有在MQW中引入新的缺陷, 使其发光效率下降。
InGaN/GaN多量子阱 超晶格 电致发光 光致发光 InGaN/GaN multi-quantum wells superlattices electroluminescence photoluminescence 
发光学报
2011, 32(11): 1152
作者单位
摘要
中国科学院物理研究所 北京凝聚态物理国家实验室, 北京 100190
系统研究了纳米量级的多孔SiNx 插入层生长位置对高质量GaN外延薄膜性质的影响。高分辨X射线衍射测量结果表明: SiNx 插入层生长在GaN粗糙层上能够得到最好的晶体质量。利用测量结果分别计算出了螺位错和刃位错的密度。此外, GaN薄膜的光学、电学性质分别用Raman散射能谱、低温光致发光能谱和霍尔测量的方法进行了表征。实验发现:SiNx 插入层的生长位置对GaN薄膜的应变大小基本没有影响; 但插入层的位置改变了薄膜中的本征载流子浓度。
金属有机物化学气相沉积(MOCVD) 高分辨X射线衍射 metalorganic chemical vapor deposition GaN GaN SiNx SiNx high resolution X-ray diffractions 
发光学报
2011, 32(10): 1014
陈耀 1,*王文新 1黎艳 1江洋 1[ ... ]陈弘 1
作者单位
摘要
1 北京凝聚态物理国家实验室, 中国科学院物理研究所 清洁能源实验室, 北京100190
2 天津中环新光科技有限公司, 天津300385
采用高温AlN作为缓冲层在国产SiC衬底上利用金属有机物化学气相外延技术生长GaN外延薄膜。通过优化AlN缓冲层的生长参数得到了高质量的GaN外延薄膜,其对称(0002)面和非对称(1012)面X射线衍射摇摆曲线的半峰宽分别达到130 arcsec和252 arcsec,这是目前报道的在国产SiC衬底上生长GaN最好的结果。文中研究了AlN缓冲层生长参数对GaN晶体质量的影响,还利用拉曼散射研究了GaN外延薄膜中的应力,发现具有越小X射线衍射摇摆曲线半峰宽的GaN外延薄膜受到的张应力也越小。
SiC衬底 X射线衍射 GaN GaN AlN AlN SiC MOCVD MOCVD XRD 
发光学报
2011, 32(9): 896

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