1 五邑大学，五邑大学⁃中国科学院半导体研究所数字光芯片联合实验室，广东江门529020
2 香港应用科技研究院，香港999077
3 北京大学工学院， 北京100871
4 华南理工大学 材料科学与工程学院，高分子光电材料与器件研究所，发光材料与器件国家重点实验室， 广州51060
分析了发展CELL（成盒单元）段OLED检测技术和检测设备的机遇和挑战，列举了成盒单元段OLED检测技术、检测设备和目前流行的主要设备制造商，并对一些核心产品及技术进行了分类和介绍，并从研究的角度对学术界在CELL段亮暗点检测和MURA检测的研究内容进行了分类和总结，分析了不同方法的优缺点。最后，给出了未来几年内CELL段OLED检测技术和设备可能的发展趋势。
有机发光二极管 成盒单元 缺陷 检测 OLED CELL MURA defect detection
合肥京东方显示技术有限公司, 安徽 合肥 230000
在TFT-LCD产品中, 液晶扩散不均是一种常见的不良缺陷。此种缺陷形状不规则, 现象为液晶屏中存在形状不规则小气泡。它的主要原因是由于液晶未完全扩散导致的。为了改善这种缺陷, 本文通过流体Washburn模型模拟液晶扩散过程, 发现液晶流动时间和液晶初始位置是关键因素, 并利用上述两个关键因素设计实验。实验结果表明, 将液晶滴注形状由2×5型变更为“工”字型, 有效地解决了扩散不均的问题。同时将对盒设备进行实验, 发现抽真空时间增加至50 s更有利于此问题的解决。另外, 对加热设备进行实验, 发现加热实验延长至100 min, 同样有利于解决不良。所以, 改变液晶滴下的初始位置、增加抽真空时间、增加加热固化时间等方式可有效改善液晶扩散不均现象。
液晶 成盒 扩散不均 liquid crystal cell diffusion inhomogeneity
合肥京东方显示技术有限公司, 安徽 合肥 230011
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)成盒配向膜涂覆工艺中, 配向膜的厚度、均一性和涂覆膜面质量直接影响液晶显示器的显示效果, 为此本文研究了喷墨涂覆工艺对配向膜质量的影响。首先优化喷墨涂覆工艺, 分析了喷吐频率对喷吐量及其均一性有显著影响。其次分析了负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度等条件对配向膜膜面质量的影响。实验表明当喷吐频率为1 000~8 000 Hz时, 喷吐量均一性满足要求; 当吐出频率达到10 000 Hz时, 喷吐量严重不均一, 不满足生产需求。得出喷涂频率、吐出量、负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度的优化条件分别为: 3 000~5 000 Hz、50~70 pL、中心值±100 Pa、500~600 mm/s、 (3.9 ±0.4)%、50%~50.3%。降低配向膜溶液固含量可改善涂覆性不均缺陷, 改变吐出密度可改善涂覆性不均缺陷, 画质质量得到提升。本文对成盒工段配向膜涂覆质量优化取得了良好效果, 能满足工程实践量产的需要。
成盒工艺 配向膜涂覆工艺 喷墨涂覆 TFT LCD TFT LCD cell process alignment film coating process inkjet coating
对盒精度提升是高世代TFT-LCD面板生产线产品小型化、薄型化、高PPI（300+）与高开口率升级的必备核心技术。通过阵列（Array）与彩膜（CF）关键位置/尺寸匹配性优化与离散性优化, 首次尝试阵列关键位置精度（TP）非线性补正功能, 并钻研成盒（Cell）过程中基板翻转稳定化、封框胶设计与涂布工艺优化, 实现电视机、显示器、笔记本、平板电脑等产品对盒精度由7.5 μm降低至5.5 μm; 在解决显示器产品按压 Mura与平板电脑产品像素漏光的同时, 对产品开口率的贡献也随着产品PPI的升高而增加, PPI 300+产品的开口率余量提高14.8%, 有效提升了高世代TFT-LCD面板生产线小尺寸/高PPI产品核心竞争力、收益性和产品群组合。另外, 本文建立高世代TFT-LCD面板生产线对盒精度分析方法、对策检讨及改善的标准流程, 形成新产品阵列TP非线性补正和对盒 辅助封框胶的设计基准。
TFT-LCD面板 对盒精度 阵列 彩膜 成盒 真空对盒 关键位置精度非线性补证 封框胶 TFT-LCD panel Ass’y margin array CF cell vacuum assembly system(VAS) total pitch non-linear offset sealant
