作者单位
摘要
聊城大学物理科学与信息工程学院, 山东省光通信科学与技术重点实验室, 山东 聊城 252059
采用脉冲激光沉积(PLD)的方法在玻璃衬底上制备了二氧化钛薄膜,研究了基片温度和氧压对薄膜表面形貌、晶体结构和光学性能的影响。结果表明:当基片温度低于300 ℃或高于400 ℃时,二氧化钛薄膜的折射率都随着基片温度的升高而增大;基片温度处于300 ℃~400 ℃之间时,折射率随着基片温度的升高而降低;基片温度为300 ℃时,折射率最大。薄膜的折射率随着氧压的增大而减小。X射线衍射仪(XRD)显示薄膜在基片温度低于300 ℃时为非晶态结构,在300 ℃时出现了锐钛矿结构,当基片温度升高到500 ℃时,薄膜仍为锐钛矿结构;300 ℃时,薄膜的A(101)衍射峰最强,结晶度最好。通过原子力显微镜(AFM)图分析得出:低于300 ℃时,随着基片温度的升高,二氧化钛薄膜的晶粒尺寸增大,聚集密度增大;高于300 ℃时,晶粒的平均尺寸大小几乎不变,300 ℃时,晶粒排列最均匀有序。根据薄膜的透射谱计算了薄膜的光学带隙,可知随着基片温度的升高,二氧化钛薄膜的带隙变窄;随着氧压的增大,带隙变宽。
薄膜 折射率 基片温度 氧压 透射谱 带隙 
中国激光
2013, 40(2): 0207001
作者单位
摘要
1 曲阜师范大学 物理工程学院, 曲阜 273165
2 鲁东大学, 烟台 264025
为了研究生长氧压对ZnO薄膜的结构和光学性质的影响,采用脉冲激光沉积技术,在P-Si〈111〉衬底上制备了不同生长氧压下的掺铜ZnO薄膜。利用X射线衍射仪对样品的结构进行了分析,并用荧光分光光度计对样品的光致发光谱进行了测量。结果表明,所有样品均在2θ=34.3°附近出现ZnO(002)衍射峰,没有发现Cu的衍射峰,在衬底温度为400℃、生长氧压为0.2Pa的条件下,样品有较好的c轴择优取向;室温下测得样品的光致发光谱中均观察到460nm(2.71eV)左右的蓝光发光带,该发光带来源于薄膜中的锌空位和锌填隙缺陷,属于深能级发射机制,并且随着氧压的升高,其发光强度增强。
薄膜 掺铜ZnO 脉冲激光沉积 氧压 光致发光 thin films Cu-doped ZnO pulsed laser deposition oxygen pressure photoluminescence 
激光技术
2011, 35(6): 781
作者单位
摘要
昆明理工大学光电子新材料研究所, 云南 昆明 650051
采用脉冲激光沉积法(PLD)在Al2O3衬底上成功制备了Zn0.99Fe0.01O薄膜,研究了退火氧压对Zn0.99Fe0.01O薄膜的晶体结构及其激光感生电压(LIV)效应的影响。X射线衍射仪分析结果表明,Zn0.99Fe0.01O具有六角纤锌矿结构,并且是沿[001]取向近外延生长。同时随着退火氧压的增大,薄膜的晶粒尺寸先增大后减小,退火氧压为2000 Pa时薄膜晶粒尺寸最大,结晶质量最好。另外在10°倾斜的Al2O3单晶衬底上制备的Zn0.99Fe0.01O薄膜在3000 Pa的退火氧压下可以观察到最大的LIV信号,达到79.5 mV。
薄膜 ZnOFe薄膜 激光感生电压 脉冲激光沉积 退火氧压 
中国激光
2011, 38(4): 0407002
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800
2 成都精密光学工程研究中心,成都 610041
ZrO2是用于高抗激光损伤薄膜的重要材料,其结构及性能与沉积条件有很大关系。采用X射线衍射(XRD)技术分析了不同充氧条件和沉积温度对ZrO2薄膜组成结构的影响,并对不同工艺下制备的薄膜的表面粗糙度和激光损伤阈值进行了测量。结果发现随着氧压的升高,ZrO2薄膜将由单斜相多晶态逐渐转变为非晶态结构,而随着基片温度的增加,薄膜将由非晶态逐渐转变为单斜相多晶态。同时发现随着氧压升高晶粒尺寸减小,而随着沉积温度增加,晶粒尺寸增大。氧压增加时工艺对表面粗糙度有一定程度的改善,而沉积温度升高,工艺对表面粗糙度的改善不明显。晶粒尺寸大小变化与表面粗糙度变化存在对应关系。激光损伤测量表明,氧压条件和沉积温度对ZrO2薄膜的抗激光损伤能力有着较大影响。
薄膜光学 ZrO2薄膜 X射线衍射 氧压 基体温度 激光损伤 
光学学报
2005, 25(7): 994

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!