激光与光电子学进展, 2022, 59 (9): 0922007, 网络出版: 2022-05-10
深紫外计算光刻技术研究 下载: 2352次特邀综述
Study on Deep Ultraviolet Computational Lithography Techniques
基本信息
DOI: | 10.3788/LOP202259.0922007 |
中图分类号: | O436 |
栏目: | “光刻技术”专题 |
项目基金: | 国家02科技重大专项(2017ZX02101004-002,2017ZX02101004)、上海市自然科学基金(17ZR1434100) |
收稿日期: | 2022-04-09 |
修改稿日期: | 2022-04-14 |
网络出版日期: | 2022-05-10 |
通讯作者: | 王向朝 (wxz26267@siom.ac.cn) |
备注: | -- |
陈国栋, 张子南, 李思坤, 王向朝. 深紫外计算光刻技术研究[J]. 激光与光电子学进展, 2022, 59(9): 0922007. Guodong Chen, Zinan Zhang, Sikun Li, Xiangzhao Wang. Study on Deep Ultraviolet Computational Lithography Techniques[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2022, 59(9): 0922007.