深紫外计算光刻技术研究

陈国栋; 张子南; 李思坤; 王向朝

doi:doi:10.3788/LOP202259.0922007

激光与光电子学进展, 2022, 59 (9): 0922007, 网络出版: 2022-05-10

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Study on Deep Ultraviolet Computational Lithography Techniques

陈国栋 ^1,2张子南 ^1,2李思坤 ^1,2王向朝 ^1,2,*

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室，上海 201800

² 中国科学院大学材料与光电研究中心，北京 100049

补充材料

陈国栋, 张子南, 李思坤, 王向朝. 深紫外计算光刻技术研究[J]. 激光与光电子学进展, 2022, 59(9): 0922007. Guodong Chen, Zinan Zhang, Sikun Li, Xiangzhao Wang. Study on Deep Ultraviolet Computational Lithography Techniques[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2022, 59(9): 0922007.