作者单位
摘要
深圳大学 物理与光电工程学院 光电子器件与系统(教育部/广东省)重点实验室, 广东 深圳 518060
提出一种新颖、可避免高温过程的大面积吸收光栅制作方法, 使用钨纳米粒子作为X射线吸收材料, 利用有机溶剂和乳化剂作为吸收材料的载体, 在负压下将它们填充到周期为42μm、深度为150μm的光栅结构中。此外, 与通过微铸造技术制作的相同结构铋块体吸收光栅相比较, 得到的X射线投影吸收对比度表明, 钨纳米颗粒对X射线吸收性能低约15%, 但纳米颗粒填充法可显著降低吸收光栅的制作成本, 并利于实现大面积制作。
X射线 相衬成像 吸收光栅 纳米颗粒  X-ray phase contrast imaging absorption grating nanoparticles tungsten 
半导体光电
2019, 40(6): 786
作者单位
摘要
深圳大学 物理与光电工程学院 光电子器件与系统(教育部/广东省)重点实验室,广东 深圳 518060
利用深反应离子刻蚀技术或湿法腐蚀在硅上制作光栅结构,将与光栅浸润的液体作为载体携带铋纳米颗粒进入光栅结构内,形成致密排列,从而制作出X射线吸收光栅.致密地填充了周期为42 μm、刻蚀深度为150 μm的光栅结构,比较了其与微铸造法制作的铋块体吸收光栅的X射线吸收性能,并通过填充周期为24 μm和6 μm的光栅结构,研究了光栅周期与填充致密性之间的关系.扫描电镜测试结果显示自由沉降法可有效制作较大周期光栅,但对周期为6 μm光栅结构填充的致密性不佳。分析结果表明,对于小周期吸收光栅,需筛选所用填充颗粒,以保证颗粒粒径远小于光栅槽宽.基于纳米颗粒的自由沉降法可降低光栅制作成本及技术门槛,方便实现大面积吸收光栅的制作.
X射线成像 吸收光栅 自由沉降 铋纳米颗粒 刻蚀 相位衬度 X-ray imaging Absorption gratings Free settling Bismuth nanoparticles Etching Phase contrast 
光子学报
2019, 48(10): 1005001

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