We report a straightforward tool to investigate insulator-metal transition in RCoO3 (R = Pr, and Nd) nanoparticles prepared by a sol–gel technique. Thermogravimetric analysis (TGA) of the as-prepared gel is performed to get the lowest possible calcination temperature of RCoO3 nanoparticles. The Rietveld refinement of the powder X-ray diffraction (XRD) patterns for both samples shows that the samples crystallize in the orthorhombic (Pnma) phase at room temperature. The particle size of the sample is determined by scanning electron microscopy. Ac conductivity of the materials is analyzed in the temperature range from 303 K to 673 K and in the frequency range from 42 Hz to 1.1 MHz. The insulator-to-metal transition of PrCoO3 and NdCoO3 is analyzed by ac impedance spectroscopy. DC resistivity measurement is also done to cross check the insulator-metal transition in RCoO3 system.

通过溶胶凝胶技术在Si衬底上制备了x从0.80增大到1.20的BixFeO3薄膜样品.分析了Bi元素含量的改变对BFO薄膜微结构和光学性质的影响，表明在Bi缺失和Bi过量的BixFeO3薄膜样品中均出现了Bi2Fe4O9杂相和铁氧化物杂相，导致BixFeO3薄膜晶格的菱形扭曲结构发生变化.测试得到了薄膜的拉曼散射谱和椭圆偏振光谱，拉曼散射谱反映了BixFeO3薄膜样品中的振动模式明显受到x取值的影响.根据椭偏数据拟合得到的结果表明折射率在波长600nm以下范围内随着x的减小而减小.而样品的禁带宽度从2.65eV 到 2.76eV，在x为1.05和1.10时得到最大值.

利用溶胶-凝胶技术与电子束蒸镀相结合的方法在常温下制备了叠层V2O5/Ag/V2O5(VAV)透明导电薄膜, 研究了各层薄膜厚度对叠层结构光电特性的影响。用原子力显微镜、紫外-可见光分光光度计、四探针电阻仪及开尔文探针对样品的表面形貌、光电性能及功函数等性质进行了表征。实验结果表明, 该薄膜具有良好的光学和电学性质, 可见光(380~780 nm)平均透过率达75%,迁移率为16.89 cm2/(V·s), 载流子浓度为－1.043×1022 cm-3, 方块电阻值为15.1 Ω/□, 功函数为5.17 eV。该制备方法降低了V2O5薄膜的工艺制备难度, 为该材料在太阳能电池中的应用创造了良好的前期基础。

Inorganic silica-titania thin films with thicknesses 150 nm–200 nm are deposited on high purity and polished silicon wafer and silica glass substrates by sol-gel dipping process and are patterned by capillary force lithography technique. Subsequently grating structure is embossed in green stage. The patterned gel films are subjected to stepwise heat treatment to 500 ℃ and above in pure oxygen atmosphere in order to achieve major conversion of mixed-gel to oxide optical films which are characterized by Ellipsometry, Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and atomic force microscopy (AFM) to optimize the fabrication parameters and to get perfectly matched film. Removal of organics and formation of perfectly inorganic silica-titania network at optimized heat treatment in controlled environment are ensured by FTIR spectral study. The difference in refractive indices between the substrate and coated film as calculated theoretically matches exactly with the developed waveguides for operating wavelength (632.8 nm) and the measured optical properties show the planar waveguide behavior of the films.

Lu2SiO5∶Ce具有高密度、 高光产额、 快衰减等优点， 是一种性能优异的新型X射线闪烁薄膜材料。 本文采用溶胶-凝胶工艺和旋涂技术， 以无机盐为原料、 2-甲氧基乙醇为溶剂、 聚乙二醇(PEG)为改性剂， 在石英基片上成功制备出Lu2SiO5∶Ce透明薄膜， 较为详细地研究了PEG对该薄膜发光性能的影响。 结果表明当采用浓度为12.5%的PEG200时， 所制备薄膜的质量和发光强度最为理想； 通过多次旋涂， Lu2SiO5∶Ce透明薄膜厚度可达0.9 μm。

利用溶胶凝胶法在石英衬底上采用旋涂法制备出ZnO薄膜,通过X射线衍射仪发现不同的退火温度对ZnO薄膜的择优取向有很大影响;通过紫外可见分光光度计 和室温发光谱可以看出,制备的薄膜有很好的光学透过性和很强的紫外发光特性,而不同的退火温度对其光学性质有很大的影响。实验发现采用此种方法在 650 ℃左右退火是一个合适的退火温度,结构特性和光学性质都相对较好;采用热分析方法可知ZnO将在375 ℃左右从非晶转向 结晶状态,因而在常规ZnO薄膜制备方法中增加一步500 ℃的热处理将有助于提高ZnO薄膜的结晶质量。

以硼酸三正丁酯、甲醇锂为主要原料,甲醇和四氢呋喃为溶剂,利用溶胶-凝胶法通过优化工艺制备了掺锂硼酸盐凝胶。分别采用粘度分析、热分析、X射线衍射、扫描电镜、透射电镜及红外光谱,对凝胶形成过程、物相、成分、微观形貌等进行表征。结果表明:对凝胶在150 ℃条件下处理4 h获得干凝胶,干凝胶在450 ℃左右产生结晶的倾向,492 ℃干凝胶已经完全从非晶态转变为晶态,在808 ℃左右晶体熔解;干凝胶是多孔网络结构材料;干凝胶网络结构的基本组成单元是以≡B-O-B=键的方式连接的,其中一个硼原子是四配位,另一个是三配位的。

掺杂氧化锌透明导电膜(AZO)是一种重要的光电子信息材料，其制备方法有真空蒸镀法、磁控溅射法，化学气相沉积和脉冲激光沉积法等。该文采用溶胶－凝胶(sol－gel)工艺在普通玻璃基片上成功地制备出Al³⁺掺杂型ZnO透明导电薄膜。将这种薄膜在空气和真空中以不同的温度进行了退火处理，并对薄膜进行了XRD分析和光电性能研究。结果表明，所制备的薄膜为钎锌矿型结构，在c轴方向择优生长，真空退火有利于薄膜结晶状况的改善，并使薄膜的载流子浓度大幅度地增加而电阻率下降，并且真空退火对薄膜的透射率影响不大。