1 福州大学 物理与信息工程学院，平板显示技术国家地方联合工程实验室，福建 福州 350108
2 中国福建光电信息科学与技术创新实验室（闽都创新实验室），福建 福州 350108
量子点色转换是实现新型显示器件全彩化和提升显示色域的一种有效策略，但量子点环境稳定性差限制了其应用和发展。本文基于具有自限制表面反应特性的原子层沉积工艺，探索了在量子点色彩转换膜上原位生长致密的氧化铝封装膜，该封装方法将具有高光透过率、高致密的材料与贴合紧密的工艺有效结合。仿真结果表明，氧化铝封装的量子点色彩转换膜的出光强度达到了未封装的94.9%。并且，实验结果也表明，氧化铝封装基板的光透过率是空白基板的96.4%，而且封装后的量子点色彩转换膜在高温高湿（85 ℃，85% RH）环境中工作240 h后，光转换效率仍然保持初始的60.8%，比未封装的光转换效率（11.43%）提升了63.9%。该封装方法实现了在量子点色彩转换膜出光强度不受影响的同时，有效提升量子点色彩转换膜的稳定性，为量子点色彩转换膜的稳定性提升提供了一条可行思路，同时扩展了原子层沉积工艺在光电显示领域的应用，具有重要的科学意义和应用前景。
氧化铝 原子层沉积 量子点色彩转换膜 光透过率 稳定性。 alumina atomic layer deposition quantum dot color conversion film light transmittance stability
华东理工大学 材料科学与工程学院, 上海 200237
用溶胶-凝胶法制备了含有四种不同模板剂的镀液, 通过浸渍镀膜法在玻璃上制膜, 并采用不同热处理工艺制得镀膜玻璃。对各种玻璃进行光透过率比较, 发现用P65模板剂的镀膜玻璃光透过率最高, 在400~800 nm 光波长范围内平均光透过率最大; 玻璃基片最合适的提拉速度是40 mm/min, 最佳的热处理温度和时间分别为500 ℃和10 min。由原子力显微镜(AFM)观察发现, 优化条件下所制的膜层平整, 采用百格法测得玻璃镀膜层具有较好的硬度。
减反射 玻璃 模板剂 工艺条件 光透过率 anti-reflection glass template agent process conditions light transmittance
北京交通大学发光与光信息技术教育部重点实验室, 北京交通大学光电子技术研究所, 北京 100044
在一些有机电致发光器件中, Au常被用作阳极, 研究者希望Au在导电的同时兼具半透明可出光的属性, 这要求Au在能导电的同时厚度要尽量薄。 因此制备两种金属共同组成电极成为了选择。 将半透明Au/Al层插入阳极一侧, 制备了结构为ITO/Al(16 nm)/Au(10 nm)/TPD(30 nm)/AlQ(30 nm)/LiF(0.5 nm)/Al的OLED器件, 相对于器件ITO/TPD(30 nm)/AlQ(30 nm)/LiF(0.5 nm)/Al在长波方向出现了光谱窄化现象, 通过分析和实验判断该现象是Au薄膜特有的对光的选择透过性造成, 而并非微腔效应。 阳极一侧加入了Au/Al的器件保持了广视角无角度依赖的优点, 同时可以输出滤掉部分红光的纯度更高的发光, 发光色纯度得到了改善。
微腔效应 光透过率 色纯度 OLED OLED Au Au Microcavity effect Light transmittance Color purity
采用共混法以聚硅氧烷微球作为光散射剂,聚甲基丙烯酸甲酯为基材制备光散射材料.研究了聚硅氧烷微球的粒径与浓度对光散射材料总光透过率与扩散率的影响并与理论模拟值进行了对比分析.研究结果表明，聚硅氧烷微球与聚甲基丙烯酸甲酯折射率匹配良好，较好地解决了光散射材料透光率与扩散率之间的矛盾，实现了高透射与高雾度的双重要求.当微球粒径为5 μm，填充浓度为0.6 wt%时，厚度为1 mm的光散射材料总光透过率为88.5%，扩散率为89.5%.可见光波段总光透过率基本不受光源波长变化影响.选取合适粒径，扩散率随光源波长变化也可降至最低，有效避免了波长色散现象.实验数据与理论模拟结果符合良好.
光散射材料 总光透过率 扩散率 聚硅氧烷微球 Light scattering materials Total transmittance Diffusivity Polysiloxane microspheres
1 西南科技大学 四川省非金属复合与功能材料省部共建国家重点实验室培育基地, 四川 绵阳 621010
2 西南科技大学 材料科学与工程学院, 四川 绵阳 621010
以三芳基六氟磷酸硫鎓盐为引发剂, 钛酸四异丙酯(TIP)为无机前驱体, 3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己基甲酸酯为单体, 制备了含TiO2纳米结构的紫外光固化阳离子复合胶粘剂。通过原子力显微镜对复合胶粘剂形貌进行表征, 研究了TIP含量对胶粘剂折射率和光透过率的影响。结果表明：TiO2无机相均匀地分散在胶粘剂的聚合物基体中, 平均粒径约为20 nm；随着体系中TIP质量分数的变化, 复合胶粘剂折射率为1.510 3~1.540 9可调；胶粘剂的光透过率随TIP质量分数增加略有减低, 但当TIP含量高达40%时, 光透过率维持在90%左右。
紫外光固化 阳离子聚合 复合胶粘剂 折射率 光透过率 UV-curable cationic polymerization composite adhesive refractive index transmittance
1 电子科技大学 物理电子学院, 成都 610054
2 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
采用HF酸刻蚀和紫外激光预处理相结合的方式提升熔石英元件的负载能力, 用质量分数为1%的HF缓冲溶液对熔石英刻蚀1~100 min, 综合透过率、粗糙度和损伤阈值测试结果, 发现刻蚀时间为10 min的熔石英抗损伤能力最佳。采用355 nm紫外激光对HF酸刻蚀10 min的熔石英进行预处理, 结果表明: 紫外预处理能量密度在熔石英零损伤阈值的60%以下时, 激光损伤阈值单调递增；能量到达80%时, 阈值反而低于原始样片的损伤阈值。适当地控制酸蚀时间和紫外激光预处理参数能有效提高熔石英的抗损伤能力。
熔石英 化学刻蚀 激光预处理 光透过率 损伤阈值 fused silica chemical etching laser conditioning transmittance LIDT
采用磁控溅射的方法在蓝宝石衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明氧化物薄膜；研究了不同厚度薄膜的结构、光学和电学特性。经X射线衍射(XRD)测量，发现在蓝宝石衬底上生长的ITO薄膜呈现了较高的(222)择优取向；随着膜层厚度的增加，该衍射峰对应的2θ衍射角逐渐向大角度方向移动，同时该衍射峰的半峰全宽逐渐减小，平均晶粒尺寸增大。 经光学透射光谱测量，发现随着膜层厚度的增加，光学透过率逐渐减小。膜层厚度为0.2 μm时，可见光透过率超过80%，当膜层厚度为0.8 μm时，可见光透过率下降到60%。电学测量结果表明，随着膜层厚度的增加，薄膜电阻率逐渐减小。膜层厚度为0.2 μm时，电阻率为9×10-4 Ω·cm, 膜层厚度为0.8 μm时，电阻率为5.5×10-4 Ω·cm。
氧化铟锡 磁控溅射 X射线衍射 光透过率 电阻 ITO magnetron sputtering XRD transmittance resisitivity
1 浙江大学物理系,浙江,杭州,310028
2 浙江大学中心实验室,浙江,杭州,310028
采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积(RF-HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金刚石薄膜.研究了衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性和光学性质的影响,其最佳值分别为700℃、2×133Pa和200W.在该条件下金刚石成核密度达1011cm-2,经1h生长即获得连续薄膜,其平均晶粒尺寸为25nm,表面粗糙度仅为55(A),在近红外区域(800nm处)的光透过率达90%.
纳米金刚石薄膜 射频等离子体增强热丝化学气相沉积 光透过率. nanocrystalline diamond film RF-HFCVD optical transmission.
