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声表面波(SAW)器件光刻过程中，制作的光刻胶线条宽度与掩模版不一致，特别是不同宽度的非均匀线条光刻后线宽变化值存在偏差。该文研究了接近式曝光衍射效应对线宽的影响，分析了掩模版上线条和缝隙宽度、衍射光强、掩模版与光刻胶间距等参数间的关系。结果表明，通过建立光学模型给出了计算曝光后不同线条宽度变化值的方法，采用程序编程可对掩模版数据中不同尺寸的线条和缝隙宽度进行补偿，实现SAW器件非均匀线条宽度的精确控制。
声表面波(SAW)器件 光刻 衍射效应 线宽 surface acoustic wave(SAW) devices photolithography diffraction effect line width
