作者单位
摘要
1 南方科技大学电子与电气工程系,深圳 518055
2 广东惠伦晶体科技股份有限公司,东莞 523757
为了制备石英晶体谐振器,在石英衬底上采用光刻和电感耦合等离子刻蚀技术制备台阶形貌,研究了制备过程中激励电源功率、偏压电源功率以及导热物质等工艺参数对刻蚀效果的影响。并且利用扫描电子显微镜对刻蚀图形的表面形貌进行了观察,通过实验与分析得到了符合工业生产要求的工艺参数。最后在最优工艺参数条件下,制得了高约22 μm的整齐的台阶形貌,并将干法刻蚀的结果与湿法刻蚀对比,展现了干法刻蚀的特点以及干法刻蚀应用于工业化生产石英晶体谐振器的潜力。
石英晶体 光刻 电感耦合等离子刻蚀 工艺参数 台阶刻蚀 quartz crystal photolithography inductively coupled plasma etching processing parameter step etching 
硅酸盐通报
2023, 42(9): 3395
王化宾 1,2何渝 1,2赵立新 1,2,*
作者单位
摘要
1 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川 成都 610209
2 中国科学院大学,北京 100049
针对目前双面微器件加工方法步骤繁琐、效率低的问题,提出基于改进Gerchberg-Saxton(GS)算法的全息双面光刻方法,使用单个光源在玻璃基底的上下表面同时曝光,进行双面图形的制作。该方法通过计算不同轴向位置图案对应的组合全息图,并将其加载到空间光调制器(LCOS-SLM)上,对入射光场进行调制,从而在目标空间内实现双面图形重现。采用改进GS算法对距离焦面2 mm处的图案A与距离焦面4.06 mm处的图案B进行全息图计算与仿真重建。搭建实验装置,对3 mm厚透明石英玻璃基底的上下表面同时曝光,且对光场生成过程中的散斑、杂散光及串扰问题做出分析并提出解决方案,最终实现60 μm线宽双层图案曝光,验证了所提方法进行双面光刻的可行性。所提方法使用单张全息图和单个光源,通过单次曝光即可在目标体积内生成多层任意图形,极大地简化了双面图形制作的步骤。
计算全息 微纳制造 双面光刻 光场调控 全息算法 
激光与光电子学进展
2023, 60(16): 1609001
Author Affiliations
Abstract
1 The Key Laboratory of Weak-Light Nonlinear Photonics of Education Ministry, School of Physics and TEDA Institute of Applied Physics, Nankai University, Tianjin 300071 P. R. China
2 State Key Laboratory of Medicinal Chemical Biology, Frontiers Science Center for Cell Responses, College of Life Sciences, Nankai University, Tianjin 300071, P. R. China
3 Collaborative Innovation Center of Extreme Optics, Shanxi University, Taiyuan Shanxi 030006, P. R. China
4 Shenzhen Research Institute of Nankai University, Shenzhen, Guangdong 518083, P. R. China
Actin cytoskeleton plays crucial roles in various cellular functions. Extracellular matrix (ECM) can modulate cell morphology by remodeling the internal cytoskeleton. To define how geometry of ECM regulates the organization of actin cytoskeleton, we plated individual NIH 3T3 cells on micropatterned substrates with distinct shapes and sizes. It was found that the stress fibers could form along the nonadhesive edges of T-shaped pattern, but were absent from the opening edge of V-shaped pattern, indicating that the organization of actin cytoskeleton was dependent on the mechanical environment. Furthermore, a secondary actin ring was observed on 50μm circular pattern while did not appear on 30μm and 40μm pattern, showing a size-dependent organization of actin cytoskeleton. Finally, osteoblasts, MDCK and A549 cells exhibited distinct organization of actin cytoskeleton on T-shaped pattern, suggesting a cell-type specificity in arrangement of actin cytoskeleton. Together, our findings brought novel insight into the organization of actin cytoskeleton on micropatterned environments.Actin cytoskeleton plays crucial roles in various cellular functions. Extracellular matrix (ECM) can modulate cell morphology by remodeling the internal cytoskeleton. To define how geometry of ECM regulates the organization of actin cytoskeleton, we plated individual NIH 3T3 cells on micropatterned substrates with distinct shapes and sizes. It was found that the stress fibers could form along the nonadhesive edges of T-shaped pattern, but were absent from the opening edge of V-shaped pattern, indicating that the organization of actin cytoskeleton was dependent on the mechanical environment. Furthermore, a secondary actin ring was observed on 50μm circular pattern while did not appear on 30μm and 40μm pattern, showing a size-dependent organization of actin cytoskeleton. Finally, osteoblasts, MDCK and A549 cells exhibited distinct organization of actin cytoskeleton on T-shaped pattern, suggesting a cell-type specificity in arrangement of actin cytoskeleton. Together, our findings brought novel insight into the organization of actin cytoskeleton on micropatterned environments.
Actin cytoskeleton photolithography micropatterning extracellular matrix 
Journal of Innovative Optical Health Sciences
2023, 16(2): 2244005
作者单位
摘要
中国科学院微电子研究所光电技术研发中心,北京 100029
离轴照明技术是光刻工艺中提高成像分辨率的关键技术之一。本文提出了一种基于傅里叶合成技术的照明系统,该系统能够实现任意照明模式,并可以提高成像数值孔径,同时具有灵活高效、能量利用率高、易于实现等优点。本课题组通过计算仿真和搭建的实验装置验证了傅里叶合成技术实现任意照明模式的可行性,掌握了傅里叶照明系统所需的数值孔径合成方法,实现照明所需的发散度。基于优化的照明程序版图在实验中实现了圆盘、二级、四极、环形等照明模式,这些照明模式光强分布较均匀且照明形状无畸变。当MEMS二维振镜的扫描角度为±1°且选用收集镜成像倍率为10时,在收集镜上可以实现最大扫描照明尺寸超过30 mm,焦点面上的4×NA值超过0.6,这一结果可以匹配当前及下一代光刻工艺及掩模检测应用的照明需求。
傅里叶光学 傅里叶合成 光刻工艺 离轴照明 椭球收集镜 角度扫描 
中国激光
2023, 50(6): 0605003
张登英 1,2,3,4,*朱林伟 3李伟任 3高鸿鹄 3[ ... ]徐征 1,4,**
作者单位
摘要
1 北京交通大学光电子技术研究所,北京 100044
2 北京太阳能电力研究院有限公司,北京 101102
3 鲁东大学物理与光电工程学院,山东 烟台 264025
4 北京交通大学发光与光信息技术教育部重点实验室,北京 100044
设计了两种具有不同参数的光刻掩模版,利用光刻技术制备了两种微米级双层复合结构。研究了曝光能量对凹形缺口深度的影响,同时采用有限差分时域法分析了掩模版曝光时的光场分布情况,阐明了微米级双层复合结构形成的物理机理。实验结果表明:通过调整曝光能量的大小,能够有效地控制凹形缺口的深度。对8 μm厚的AZ9260光刻胶来说,不高于160 mJ/cm2的曝光能量是制备出微米级双层复合结构的关键。该技术在制备微米尺寸的分层器件方面有着潜在的应用前景。
光学器件 微结构制造 光刻 微米级双层复合结构 有限差分时域法 
光学学报
2023, 43(3): 0323002
Author Affiliations
Abstract
Department of Chemistry and Biochemistry, Bard College, Annandale-on-Hudson, NY, United States of America
In this report, we demonstrate a novel technique for the microscopic patterning of gold by combining the photoreduction of AuIIIBr4 - to AuIBr2 - and the electrochemical reduction of AuIBr2 - to elemental gold in a single step within solution. While mask-based methods have been the norm for electroplating, the adoption of direct laser writing for flexible, real-time patterning has not been widespread. Through irradiation using a 405 nm laser and applying a voltage corresponding to a selective potential window specific to AuIBr2 -, we have shown that we can locally deposit elemental gold at the focal point of the laser. In addition to demonstrating the feasibility of the technique, we have collected data on the kinetics of the photoreduction reaction in ethanol and have deduced its rate law. We have confirmed the selective deposition of AuIBr2 - within a potential window through controlled potential electrolysis experiments and through direct measurement on a quartz crystal microbalance. Finally, we have verified local deposition through scanning electron microscopy.
photolithography direct laser writing electrodeposition gold (III) bromide photoreduction 
International Journal of Extreme Manufacturing
2022, 4(3): 035001
作者单位
摘要
深圳大学 材料学院, 深圳市特种功能材料重点实验室, 广东省功能材料界面工程研究中心, 广东 深圳  518055
通过在直流等离子体喷射化学气相沉积(DC?PJCVD)法生长的多晶金刚石薄膜上制备Au叉指电极,构建了金属?半导体?金属(MSM)结构的日盲紫外探测器件。研究了不同光刻工艺对制备的金刚石探测器件性能的影响。结果表明,lift?off光刻工艺所制备的器件性能明显优于湿法光刻工艺器件,其Ilight提高了4.4倍,光暗电流比提高了6.8倍,在25 V电压下响应度提高了9倍,达到了0.15 A/W。在此基础上通过lift?off光刻工艺制备了Au、Ti、Ti/Au和Ag四种不同金属的叉指电极,对比了不同金属电极制备的金刚石紫外探测器件的性能差异。其中Ag电极由于存在势垒隧穿效应引起的增益,在四种电极中性能表现最佳,在25 V偏压下其Ilight高达0.21 μA,响应度提升到0.78 A/W,性能与已有报道的器件性能相当。与普通Au电极制备的器件相比,其光电流提高了5.2倍,光暗电流比提升了7倍,响应度提高了5.2倍。
金刚石薄膜 lift-off光刻工艺 Ag电极 日盲紫外探测器 diamond films lift-off photolithography Ag electrode solar blind ultraviolet detector 
发光学报
2022, 43(12): 1974
作者单位
摘要
福州大学 物理与信息工程学院,福州350108
采用基于光酸反应的光刻工艺,获得均匀的红、绿、蓝三基色量子点薄膜作为发光层,成功制备出高分辨全彩QLED器件(子像素宽度5 μm)。通过对光刻量子点表面进行配体钝化,并引入电荷阻挡层以降低非发光区的漏电流,明显提升了全彩QLED的器件性能,所制备器件的最大亮度为23 831 cd/m2,外量子效率为3.78%。
光刻 像素化 光酸反应 量子点发光器件 photolithography pixelation photoacid reaction quantum dot light-emitting device 
光电子技术
2022, 42(3): 176
作者单位
摘要
1 中国科学院合肥物质科学研究院安徽光学精密机械研究所,安徽合肥 230031
2 中国科学技术大学,安徽 合肥 230026
将光电性能优异、可通过低温溶液法制备的卤化物钙钛矿制成阵列型光电探测器, 必将推动其在成像、光通信等领域中的应用。然而, 卤化物钙钛矿易被常规溶剂 (包括显影液) 溶解, 导致其与光刻工艺不兼容。自组装单分子疏水层结合光刻工艺的亲水-疏水图形基底制备方法能解决制备过程中极性溶剂与钙钛矿材料不兼容的问题, 通过简单的旋涂 (极性钙钛矿前驱体溶液仅在亲水图形区域浸润)、低温退火, 可以快速获得钙钛矿阵列。CH3NH3PbI3 薄膜阵列光电探测器具有良好的光电性能, 530 nm 光辐照下探测率为 4.7×1011 Jones, 响应度为 0.055 A/W。这项工作为制备图案可控的钙钛矿薄膜阵列光电探测器提供了一种简单而有效的策略。
薄膜光学 卤化物钙钛矿 光电探测器阵列 反溶剂法 亲水- 疏水基底 光刻 film optics halide perovskite photodetector arrays anti-solvent method hydrophilic-hydrophobic substrate photolithography 
量子电子学报
2022, 39(5): 752
作者单位
摘要
1 北京航天微电科技有限公司,北京 100854
2 北京无线电测量研究所,北京 100854
声表面波(SAW)器件光刻过程中,制作的光刻胶线条宽度与掩模版不一致,特别是不同宽度的非均匀线条光刻后线宽变化值存在偏差。该文研究了接近式曝光衍射效应对线宽的影响,分析了掩模版上线条和缝隙宽度、衍射光强、掩模版与光刻胶间距等参数间的关系。结果表明,通过建立光学模型给出了计算曝光后不同线条宽度变化值的方法,采用程序编程可对掩模版数据中不同尺寸的线条和缝隙宽度进行补偿,实现SAW器件非均匀线条宽度的精确控制。
声表面波(SAW)器件 光刻 衍射效应 线宽 surface acoustic wave(SAW) devices photolithography diffraction effect line width 
压电与声光
2022, 44(2): 246

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